在半導(dǎo)體基底200上方形成中間層210、220和230。半導(dǎo)體基底200包括作為半導(dǎo)體晶圓的硅。在各種實(shí)施例中，半導(dǎo)體基底200可以包括另一元素半導(dǎo)體(諸如，鍺)、化合物半導(dǎo)體(諸如，碳化硅、砷化鎵、磷化鎵、磷化銦、砷化銦和/或銻化銦)、合金半導(dǎo)體(諸如，gaasp、alinas、algaas、ingaas、gainp和/或gainasp)或它們的組合。半導(dǎo)體基底200可以包括有源區(qū)、外延特征、隔離結(jié)構(gòu)、鰭狀半 導(dǎo)體區(qū)域和/或其他合適的特征。在一些示例實(shí)施例中，半導(dǎo)體基底200包括多晶硅層，該多晶硅層可被用于形成多晶硅柵電極或者用于在柵極替換工藝中形成虛設(shè)柵電極。中間層210、220和230可以是介電層，可以通過諸如熱氧化、化學(xué)氣相沉積(cvd)、物相沉積(pvd)、等離子體增強(qiáng)cvd(pecvd)和原子層沉積(ald)的一種或更多種沉積技術(shù)形成所述介電層。參照圖4b，在設(shè)置在介電層230上方的層240和層250上方對光致抗蝕劑(或抗蝕劑圖案)pr1、pr2和pr3進(jìn)行圖案化。例如，層250可以是含硅硬掩模層，層240可以是抗反射涂層。可以使用cvd、pvd或其他合適的方法形成層240和層250。在一些示例實(shí)施例中，可以在介電層230上方直接形成抗蝕劑圖案pr1、pr2和pr3而沒有層240和層250。上海海谷電子有限公司是一家專業(yè)提供回收的公司，有想法的不要錯(cuò)過哦！甘肅三極管回收量大從優(yōu)

等的半導(dǎo)體或者例如sige、sic、gaas、inas、inp等的化合物半導(dǎo)體。在一些示例實(shí)施例中，基底110可以具有絕緣體上硅(soi)結(jié)構(gòu)。基底110可以包括導(dǎo)電區(qū)域，例如，摻雜雜質(zhì)的阱或摻雜雜質(zhì)的結(jié)構(gòu)。標(biāo)準(zhǔn)單元可以包括器件區(qū)rx1、第二器件區(qū)rx2以及使器件區(qū)rx1和第二器件區(qū)rx2沿第二方向y分離的有源切口區(qū)acr。器件區(qū)rx1和第二器件區(qū)rx2中的每個(gè)可以包括從基底110沿第三方向z突出的多個(gè)鰭型有源區(qū)ac(參見圖12c)。多個(gè)有源區(qū)ac可以在方向x上彼此平行地延伸。器件隔離層112可以沿著第二方向y在基底110上位于多個(gè)有源區(qū)ac之間。多個(gè)有源區(qū)ac以鰭的形式沿著第三方向z從器件隔離層112突出。多個(gè)柵極絕緣層118和多條柵極線pc11、12、13、14、15和16可以形成在基底110上。柵極線pc11、12、13、14、15和16可以在與多個(gè)有源區(qū)ac交叉的第二方向y上延伸。多個(gè)柵極絕緣層118和多條柵極線pc11、12、13、14、15和16可以覆蓋每個(gè)有源區(qū)ac的上表面和側(cè)壁以及器件隔離層112的上表面。多個(gè)金屬氧化物半導(dǎo)體(mos)晶體管可以沿著多條柵極線pc11、12、13、14、15和16形成。mos晶體管可以具有在有源區(qū)ac的上表面和兩個(gè)側(cè)壁中形成溝道的三維結(jié)構(gòu)。圖11提供了圖例：“pc”表示柵極線，“ca”表示接觸件。河北二極管回收收購回收，就選上海海谷電子有限公司，讓您滿意，歡迎您的來電哦！

導(dǎo)電覆蓋層可以由金屬氮化物(例如，tin、tan、它們的組合等)形成。間隙填充金屬層可以填充有源區(qū)ac之間的空間并且在導(dǎo)電覆蓋層上延伸。間隙填充金屬層可以由w(例如，鎢)層形成。間隙填充金屬層可以例如通過使用ald方法、cvd方法或物相沉積(pvd)方法形成。多個(gè)導(dǎo)電接觸件ca和cb可以位于有源區(qū)ac上的層ly1上。多個(gè)導(dǎo)電接觸件ca和cb包括連接到有源區(qū)ac的源區(qū)/漏區(qū)116的多個(gè)接觸件ca21、22、23、24、25、31、32、33、34和35(參見圖12b)和連接到柵極線pc11、12、13、14、15和16的多個(gè)第二接觸件cb41、42和43(參見圖12a和12c)。多個(gè)導(dǎo)電接觸件ca和cb可以通過覆蓋有源區(qū) ac和柵極線pc的層間絕緣層132彼此絕緣。多個(gè)導(dǎo)電接觸件ca和cb可以具有與層間絕緣層132的上表面基本處于同一水平處的上表面。層間絕緣層132可以是氧化硅層。第二層間絕緣層134和穿過第二層間絕緣層134的多個(gè)下通孔接觸件v051、52、53、54、55、56、57、58、59、60、61和62位于層間絕緣層132上。第二層間絕緣層134可以是氧化硅層。在高于層ly1(例如，沿著第三方向z距基底110更遠(yuǎn))的第二層ly2上沿方向x延伸的多條線路m171、72、73、74、75、76、77和78可以位于第二層間絕緣層134上。

每個(gè)單元線路結(jié)構(gòu)uws5的八條柵極線gl1至gl8可以通過sadp形成。如參照圖4a至圖4i所述，可以在柵極層gtl上方形成雙倍心軸圖案dpg1至dpg4。例如，雙倍心軸圖案dpg1至dpg4可以被在方向x上布置成具有可以等于抗蝕劑圖案的節(jié)距的相同的雙倍心軸節(jié)距pdg。在這種情況下，每個(gè)單元線路結(jié)構(gòu)uws5的八條柵極線gl1至gl8可以在方向x上布置成交替地具有柵極節(jié)距pg11和第二柵極節(jié)距pg12。 柵極節(jié)距pg11和第二柵極節(jié)距pg12可以彼此不同。柵極節(jié)距pg11和第二柵極節(jié)距pg12可以由表達(dá)式2表示。參照圖10，每個(gè)單元線路結(jié)構(gòu)uws6的八條柵極線gl1至gl8可以通過saqp形成。如參照圖4a至圖4i所述，可以在柵極層gtl上方順序地形成四倍心軸圖案qpg1和qpg2以及雙倍心軸圖案dpg1至dpg4。例如，四倍心軸圖案qpg1和qpg2可以在方向x上布置成具有可以等于抗蝕劑圖案的節(jié)距的相同的四倍心軸節(jié)距pqg。在這種情況下，每個(gè)單元線路結(jié)構(gòu)uws6的八條柵極線gl1至gl8可以在方向x上布置成順序地且重復(fù)地具有柵極節(jié)距pg21、第二柵極節(jié)距pg22、柵極節(jié)距pg21和第三柵極節(jié)距pg23。柵極節(jié)距pg21、第二柵極節(jié)距pg22和第三柵極節(jié)距pg23可以彼此不同。柵極節(jié)距pg21、第二柵極節(jié)距pg22和第三柵極節(jié)距pg23可以由表達(dá)式3表示。上海海谷電子有限公司回收獲得眾多用戶的認(rèn)可。

示出了一個(gè)處理器1500。可選地，多個(gè)處理器可以包括在設(shè)計(jì)系統(tǒng)1000中。此外，處理器1500可以包括增加計(jì)算容量的高速緩存存儲(chǔ)器。這樣，根據(jù)示例實(shí)施例的集成電路和設(shè)計(jì)集成電路的方法可以通過單元線路結(jié)構(gòu)提高集成電路的設(shè)計(jì)效率和性能。圖15是示出圖14的設(shè)計(jì)系統(tǒng)的示例操作的流程圖。參照圖14和圖15，設(shè)計(jì)模塊1400可以接收定義集成電路的輸入數(shù)據(jù)di(s11)。布局模塊1200可以參照包括如上所述的多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)單元的標(biāo)準(zhǔn)單元庫1110，以便提取與輸入數(shù)據(jù)di對應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)單元，并且可以使用提取的標(biāo)準(zhǔn)單元執(zhí)行單元布局(s12)。布線模塊1300可以針對布局的單元執(zhí)行信號(hào)布線(s13)。當(dāng)信號(hào)布線不成功時(shí)(s14：否)，布局模塊1200可以替換至少一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)單元，例如，可以用另一標(biāo)準(zhǔn)單元替換至少一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)單元，以修改單元的布局(s15)。布線模塊1300可以針對修改的布局再次執(zhí)行信號(hào)布線(s13)。這樣，可以重復(fù)地布局和布線，直到成功完成信號(hào)布線。當(dāng)信號(hào)布線成功完成時(shí)(s14：是)，設(shè)計(jì)模塊1400可以生成定義集成電路的輸出數(shù)據(jù)do(s16)。圖16是示出根據(jù)示例實(shí)施例的集成電路的布圖的示圖。圖16的集成電路300可以是集成電路(asic)。上海海谷電子有限公司為您提供回收，歡迎您的來電哦！上海電容電阻回收中心

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存儲(chǔ)介質(zhì)1100(例如，存儲(chǔ)裝置)可以存儲(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)單元庫sclb1110。標(biāo)準(zhǔn)單元庫1110可以從存儲(chǔ)介質(zhì)1100被提供給設(shè)計(jì)模塊1400。標(biāo)準(zhǔn)單元庫1110可以包括多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)單元，并且標(biāo)準(zhǔn)單元可以是用于設(shè)計(jì)塊、器件和/或芯片的小的(例如，小的)單元。存儲(chǔ)介質(zhì)1100可以包括用于將命令和/或數(shù)據(jù)提供給計(jì)算機(jī)作為計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)的任何計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。例如，計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)可以包括諸如隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(ram)、只讀存儲(chǔ)器(rom)等的易失性存儲(chǔ)器，以及諸如閃存、磁阻ram(mram)、相變r(jià)am(pram)、電阻式ram(rram)等的非易失性存儲(chǔ)器。計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)可以入到計(jì)算機(jī)中，可以被集成在計(jì)算機(jī)中，或者可以通過諸如網(wǎng)絡(luò)和/或無線鏈接的通信介質(zhì)連接到計(jì)算機(jī)。設(shè)計(jì)模塊1400可以包括布局模塊plmd1200和布線模塊rtmd1300。在此，術(shù)語“模塊”可以指示但不限于執(zhí)行特定任務(wù)的軟件和/或硬件組件(諸如，現(xiàn)場可編程門陣列(fpga)或集成電路(asic))。模塊可以駐留在有形的、可尋址的存儲(chǔ)介質(zhì)中，并且可以在一個(gè)或多個(gè)處理器上執(zhí)行。例如。甘肅三極管回收量大從優(yōu)

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