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來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-06-15

納米電子器件制造

? 半導(dǎo)體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。

? 二維材料器件:在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面,通過電子束光刻膠定義納米電極陣列,構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器。

 納米光子學(xué)與超材料

? 光子晶體與波導(dǎo):利用光刻膠制備亞波長周期結(jié)構(gòu)(如光子晶體光纖、納米級(jí)波導(dǎo)彎頭),調(diào)控光的傳播路徑,用于集成光路或量子光學(xué)器件。

? 超材料設(shè)計(jì):在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級(jí)“魚網(wǎng)狀”“蝴蝶結(jié)”等圖案(如太赫茲超材料),實(shí)現(xiàn)對(duì)電磁波的超常調(diào)控(吸收、偏振轉(zhuǎn)換)。
吉田半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐。蘇州激光光刻膠多少錢

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在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借 23 年技術(shù)沉淀,已成為國內(nèi)光刻膠行業(yè)的企業(yè)。公司產(chǎn)品線覆蓋正性、負(fù)性、厚膜、納米壓印等多類型光刻膠,廣泛應(yīng)用于芯片制造、LCD 顯示、PCB 電路板等領(lǐng)域。
  1. 技術(shù):自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品具備高分辨率(如 JT-3001 厚板光刻膠)、高感光度(如 JT-1000 負(fù)性光刻膠)及抗深蝕刻性能,部分指標(biāo)達(dá)到水平。
  2. 嚴(yán)苛品控:生產(chǎn)過程嚴(yán)格遵循 ISO9001 體系,材料進(jìn)口率 100%,并通過 8S 現(xiàn)場管理確保制程穩(wěn)定性。
  3. 定制化服務(wù):支持客戶需求定制,例如為特殊工藝開發(fā)光刻膠,滿足多樣化場景需求。
公司位于松山湖開發(fā)區(qū),依托產(chǎn)業(yè)園區(qū)資源,持續(xù)加大研發(fā),與科研機(jī)構(gòu)合作推動(dòng)技術(shù)升級(jí)。目前,吉田半導(dǎo)體已服務(wù)全球數(shù)千家客戶,以 “匠心品質(zhì)、售后無憂” 的理念贏得市場口碑。
重慶正性光刻膠品牌松山湖光刻膠廠家吉田,2000 萬級(jí)產(chǎn)能,48 小時(shí)極速交付!

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光刻膠(Photoresist)是一種對(duì)光敏感的高分子材料,主要用于光刻工藝中,通過光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,是半導(dǎo)體、集成電路(IC)、印刷電路板(PCB)、液晶顯示(LCD)等制造領(lǐng)域的材料之一。

光刻膠特性與組成

? 光敏性:在特定波長(如紫外光、極紫外光EUV等)照射下,會(huì)發(fā)生化學(xué)結(jié)構(gòu)變化(如交聯(lián)或分解),從而改變?cè)陲@影液中的溶解性。

? 主要成分:

? 樹脂(成膜劑):形成基礎(chǔ)膜層,決定光刻膠的機(jī)械和化學(xué)性能。

? 光敏劑:吸收光能并引發(fā)化學(xué)反應(yīng)(如光分解、光交聯(lián))。

? 溶劑:調(diào)節(jié)粘度,便于涂覆成膜。

? 添加劑:改善性能(如感光度、分辨率、對(duì)比度等)。

吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001:國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級(jí)

JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。
吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度 PCB 制造。其無鹵無鉛配方通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動(dòng)化工藝,批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%,幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%,加速國產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級(jí),推動(dòng) PCB 行業(yè)國產(chǎn)化進(jìn)程。
聚焦封裝需求,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù)。

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國產(chǎn)替代進(jìn)程加速
日本信越化學(xué)因地震導(dǎo)致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后,國內(nèi)企業(yè)加速驗(yàn)證本土產(chǎn)品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產(chǎn)線2024年12月獲兩家大廠百萬大單,二期300噸生產(chǎn)線在建。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數(shù)接近日本UV1610,已通過中芯國際14nm工藝驗(yàn)證。預(yù)計(jì)到2025年,國內(nèi)KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率將從不足5%提升至10%。

 原材料國產(chǎn)化突破
光刻膠樹脂占成本50%-60%,八億時(shí)空的光刻膠樹脂產(chǎn)線預(yù)計(jì)2025年實(shí)現(xiàn)百噸級(jí)量產(chǎn),其產(chǎn)品純度達(dá)到99.999%,金屬雜質(zhì)含量低于1ppb。怡達(dá)股份作為全球電子級(jí)PM溶劑前段(市占率超40%),與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,打破了日本關(guān)東化學(xué)的壟斷。這些進(jìn)展使光刻膠生產(chǎn)成本降低約20%。

 供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)緩解
合肥海關(guān)通過“空中專線”保障光刻膠運(yùn)輸,將進(jìn)口周期從28天縮短至17天,碳排放減少18%。國內(nèi)在建12座光刻膠工廠(占全球總數(shù)58%),預(yù)計(jì)2025年產(chǎn)能達(dá)3000噸/年,較2023年增長150%。
PCB光刻膠國產(chǎn)化率超50%。南京水油光刻膠

吉田半導(dǎo)體材料的綠色環(huán)保與可持續(xù)發(fā)展。蘇州激光光刻膠多少錢

 全品類覆蓋與定制化能力
吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠等全品類,適用于半導(dǎo)體、顯示面板、MEMS等多個(gè)領(lǐng)域。例如,其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求,支持客戶定制化工藝參數(shù),尤其在柔性顯示(OLED)和Mini/Micro LED等新興領(lǐng)域表現(xiàn)突出。
技術(shù)亮點(diǎn):通過自主研發(fā)的樹脂配方和光敏劑體系,實(shí)現(xiàn)了高分辨率(120nm)和高抗蝕性的平衡,部分指標(biāo)(如線寬粗糙度LWR<3nm)接近國際主流產(chǎn)品水平。

 國產(chǎn)化材料與工藝適配
公司采用進(jìn)口原材料+本地化生產(chǎn)模式,關(guān)鍵樹脂單體、光敏劑等主要成分通過德國默克、日本信越等供應(yīng)商采購,同時(shí)建立了超純提純工藝(雜質(zhì)含量<1ppm),確保產(chǎn)品穩(wěn)定性。此外,其光刻膠與國內(nèi)主流光刻機(jī)(如上海微電子SSA800)、勻膠顯影機(jī)(如盛美上海)的兼容性已通過驗(yàn)證,縮短客戶工藝調(diào)試周期。
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