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納米壓印應(yīng)用二：面板尺寸的大面積納米壓印 EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實現(xiàn)。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元...

IQ Aligner? 自動化掩模對準系統(tǒng) 特色：EVG ? IQ定位儀?平臺用于自動非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達200毫米。 技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺，可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至...

EVG120特征2： 先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量； 工藝技術(shù)卓/越和開發(fā)服務(wù)： 多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言） 智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Fra...

EVG的光刻機技術(shù)：EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對準器的高產(chǎn)能，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識。EVG的所有光刻設(shè)備平臺均支持300毫米的晶圓，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并配有用于從上到下的側(cè)面對...

EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品，使用**/先進的工程技術(shù)。 用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關(guān)鍵參數(shù)決定。亞微米對準精度，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙，以及對應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準。此外，整個晶圓表面的高光...

LFS控制單元上的每個D-Sub15插座都有4個對應(yīng)于AVI元件的開關(guān)輸出，這些AVI元件以任意4個矩形方向（即平行或直角）放置，不允許其他方向。 面向LFS傳感器的藍色LED直立。將***個AVI元件連接到后面板上的12個D-Sub15插座中的任何...

NanoX-8000 系統(tǒng)主要性能 ? 菜單式系統(tǒng)設(shè)置，一鍵式操作，自動數(shù)據(jù)存儲 ? 一鍵式系統(tǒng)校準 ? 支持連接MES系統(tǒng)，數(shù)據(jù)可導入SPC ? 具備異常報警，急停等功能，報警信息可儲存 ? MTBF ≥ 1500 hrs ...

針對表面帶有微結(jié)構(gòu)硅晶圓的封裝展開研究，以采用 Ti / Au 作為金屬過渡層的硅—硅共晶鍵合為對象，提出一種表面帶有微結(jié)構(gòu)的硅—硅共晶鍵合工藝，以親水濕法表面活化處理降低硅片表面雜質(zhì)含量，以微裝配平臺與鍵合機控制鍵合環(huán)境及溫度來保證鍵合精度與鍵合強度，使用恒...

F3-CS： 快速厚度測量可選配FILMeasure厚度測量軟件使厚度測量就像在平臺上放置你的樣品一樣容易, 軟件內(nèi)建所有常見的電介質(zhì)和半導體層（包括C，N和HT型聚對二甲苯）的光學常數(shù)(n和k）,厚度結(jié)果會及時的以直覺的測量結(jié)果顯示對于進階使用者，...

EVG ? 620 NT 掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動） 特色：EVG ? 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準技術(shù)在**小化的占位面積，支持高達150毫米晶圓尺寸。 技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在**小的占位面積上結(jié)合了...

F54自動化薄膜測繪Filmetrics F54 系列的產(chǎn)品能以一個電動R-Theta 平臺自動移動到選定的測量點以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度, 樣品直徑達450毫米 可選擇數(shù)十種內(nèi)建之同心圓,矩形,或線性圖案模式,或自行建立無數(shù)量限制之...

納米壓印光刻（NIL）技術(shù) EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現(xiàn)了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分...

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項 預(yù)對準：光學/機械 ID讀取器：條形碼，字母數(shù)字，數(shù)據(jù)矩陣 系統(tǒng)控制： 操作系統(tǒng)：Windows 文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器 靈活的流程定義/易...

HERCULES?NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn) ■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板） ■結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL?技術(shù) ■全自動壓印和...

F3-CS： Filmetrics的F3-CS 專門為了微小視野及微小樣品測量設(shè)計, 任何人從**操作到研&發(fā)人員都可以此簡易USB供電系統(tǒng)在數(shù)秒鐘內(nèi)測量如聚對二甲苯和真空鍍膜層厚度. 我們具專利的自動校正功能大幅縮短測量設(shè)置並可自動調(diào)節(jié)儀器的...

IQ Aligner工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理 晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米 對準方式： 上側(cè)對準：≤±0.5 μm 底側(cè)對準：≤±1,0 μ...

三、涵蓋面廣的2D、3D形貌參數(shù)分析： 表面三維輪廓儀可測量300余種2D、3D參數(shù)，無論加工的物件使用哪一種評定標準，都可以提供***的檢測結(jié)果作為評定依據(jù)，可輕松獲取被測物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數(shù)。 四、穩(wěn)定性強，高重復(fù)...

F40 系列將您的顯微鏡變成薄膜測量工具F40 產(chǎn)品系列用于測量小到 1 微米的光斑。 對大多數(shù)顯微鏡而言，F(xiàn)40 能簡單地固定在 c 型轉(zhuǎn)接器上，這樣的轉(zhuǎn)接器是顯微鏡行業(yè)標準配件。 F40 配備的集成彩色攝像機，能夠?qū)y量點進行準確監(jiān)控。 在 1 ...

陽極鍵合是晶片鍵合的一種方法，***用于微電子工業(yè)中，利用熱量和靜電場的結(jié)合將兩個表面密封在一起。這種鍵合技術(shù)蕞常用于將玻璃層密封到硅晶圓上。也稱為場輔助鍵合或靜電密封，它類似于直接鍵合，與大多數(shù)其他鍵合技術(shù)不同，它通常不需要中間層，但不同之處在于，它依賴...

EVG ? 620 NT特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導 遠程技術(shù)支持 多用...

EVG?501鍵合機特征： 獨特的壓力和溫度均勻性； 兼容EVG機械和光學對準器； 靈活的研究設(shè)計和配置； 從單芯片到晶圓； 各種工藝（共晶，焊料，TLP，直接鍵合）； 可選的渦輪泵（<1E-5mbar）； 可升級...

AVI600-S AVI 600-S的基本配置包括兩個緊湊型單元和一個控制單元，比較大負載為800公斤。通過增加緊湊型單元的數(shù)量，可以輕松實現(xiàn)對更高負載的支持。為了使AVI 600-S適應(yīng)用戶特定的應(yīng)用，可以使用不同長度的緊湊型裝置。 ...

EVG ? 6200 NT特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導 遠程技術(shù)支持 多...

AVI-400系列（負載：**多800kg） 型號：AVI-400SLP，AVI-400MLP，AVI-400XLP 系統(tǒng)形狀：控制器與防振單元分離型 主動控制范圍：被動隔振范圍200Hz以上 確認防振狀態(tài)：使用控制器背面的BNC連接...

氚燈電腦要求60mb硬盤空間50mb空閑內(nèi)存usb接口電源要求100-240vac,50-60hz,a選配以下鏡頭，就可在F20的基礎(chǔ)上升級為新一代的F70膜厚測量儀。鏡頭配件厚度范圍(Index=)精度光斑大小UPG-F70-SR-KIT15nm-5...

AVI 200-XL的隔離始于1,2 Hz，然后迅速增加至超過10Hz的35dB 減少低頻諧振可得到比普通的被動空氣阻尼系統(tǒng)更好的性能 AVI 200-XL系統(tǒng)固有的剛性賦予其出色的方向性和位置穩(wěn)定性 AVI 200-XL的出色性能包括所...

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。 通過為大批量...

輪廓儀的功能: 廓測量儀能夠?qū)Ω鞣N工件輪廓進行長度、高度、間距、水平距離、垂直距離、角度、圓弧半徑等幾何參數(shù)測量。測量效率高、操作簡單、適用于車間檢測站或計量室使用。 白光輪廓儀的典型應(yīng)用： 對各種產(chǎn)品，不見和材料表面的平面度，粗...

光刻膠處理系統(tǒng) EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標準。EVG100系列的設(shè)計旨在提供**廣/泛的工藝變革，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻模塊，以滿足個性化生產(chǎn)需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料...

EVG ? 7200 LA特征： 專有SmartNIL ?技術(shù)，提供了****的印跡形大面積 經(jīng)過驗證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本 強大且精確可控的處理 與...