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    可通過蒸發或蒸餾或者通過對比給定溫度下的泡點或的蒸氣壓來實施共沸型化合物的確定。在工業應用的情況下使用共沸物是特別有利的，以使組合物再生，例如當其飽和有污染物的時候。簡單蒸餾可回收初的共沸組合物，而沒有各組分的任何分餾。而且，2-甲基四氫呋喃(2-MeTHF)具有得自可再生原料(例如得自纖維素材料的糠醛)的優點。因此，半纖維素多糖是含有5個碳原子的基于糖的聚合物。當在硫酸的存在下加熱半纖維素時，得到戊糖(含有5個碳原子的糖)，例如木糖。當進行木糖的熱脫水時，該木糖轉化為糠醛。除了低的GWP和它們的可生物降解性之外，根據本發明的一些組合物是不可燃的(根據ASTMD3828標準，閉杯閃點高于55°C)并且特別適合作為清洗溶劑或作為用于加熱和冷卻應用的制冷劑。它們也可用作發泡劑。實驗部分實施例1通過使用沸點測定技術測量液體混合物的沸點。首先，將適量的九氟丁基甲基醚裝料到沸點測定儀中，然后，使其沸騰。在達到平衡狀態之后，記錄在大氣壓下的沸點。然后，將甲基四氫呋喃的等分試樣引入到所述沸點測定儀中并且在已達到平衡狀態之后再次記錄溫度。表I給出九氟丁基甲基醚和甲基四氫呋喃的各種混合物在。

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    所述的磷酸濃度為82-87％。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液，醇醚類的含量為％。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液，表面活性劑的含量為％。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液，所述的醇醚類為選自二乙二醇單甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇單甲醚、三甘醇單丁醚等中的至少一種；表面活性劑為選自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸鈉、月桂酰氨乙基硫酸鈉、醇醚羧酸鹽等中的至少一種。進一步地，在使用本發明的蝕刻液進行氮化硅層蝕刻時，蝕刻溫度為152-165℃，蝕刻時間為5-60min。通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，改善了磷酸的浸潤性和表面張力，明顯提高了蝕刻液對氮化硅層的潤濕和蝕刻均勻性。為了便于驗證氮化硅薄膜層的蝕刻均勻性，本發明使用淀積了氮化硅薄膜的晶圓樣片(初始厚度約為)。蝕刻液配制完成后，先使用表面張力儀檢測該蝕刻液的表面張力；然后將氮化硅晶圓片切割成1cm*3cm的小樣片，采用超純水清洗和氮氣吹干后，使用接觸角測量儀檢測蝕刻液對氮化硅層的接觸角大小。在蝕刻前，使用橢圓偏振光譜儀對氮化硅樣片取不同位置共6個點進行厚度的測量。江蘇電子級BOE蝕刻液商家