1. 正性光刻膠（如 YK-300）
   應用場景：用于芯片的精細圖案化，如集成電路（IC）、分立器件（二極管、三極管）的制造。
   特點：高分辨率（可達亞微米級），適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性。
2. 負性光刻膠（如 JT-1000）
   應用場景：用于功率半導體（如 MOSFET、IGBT）的制造，以及傳感器（如 MEMS）的微結構成型。
   特點：抗蝕刻能力強，適合復雜圖形的轉移，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現優異。
3. 納米壓印光刻膠（JT-2000）
   應用場景：第三代半導體（GaN、SiC）芯片、量子點器件及微流控芯片的制造。特點：耐高溫（250℃）、耐酸堿，支持納米級精度圖案復制，降低芯片的制造成本。

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優勢，適用于不同領域。

厚板光刻膠 JT - 3001：具有優異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年，適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景，如一些特殊的電路板制造。

SU - 3 負性光刻膠：分辨率優異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應。重量為 100g，常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規格，具有優異的分辨率，準確性和穩定性好。主要應用于液晶平板顯示器的制造，能滿足其對光刻膠高精度和穩定性的需求。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高。重量 100g，適用于需要在特殊化學和高溫環境下進行納米壓印光刻的工藝，如一些半導體器件的制造。 PCB廠商必看！這款G-line光刻膠讓生產成本直降30%。陜西3微米光刻膠報價

挑戰與未來展望的發展。成都進口光刻膠工廠

吉田半導體突破 ArF 光刻膠技術壁壘，國產替代再迎新進展