1. 正性光刻膠（如 YK-300）
   應用場景：用于芯片的精細圖案化，如集成電路（IC）、分立器件（二極管、三極管）的制造。
   特點：高分辨率（可達亞微米級），適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性。
2. 負性光刻膠（如 JT-1000）
   應用場景：用于功率半導體（如 MOSFET、IGBT）的制造，以及傳感器（如 MEMS）的微結構成型。
   特點：抗蝕刻能力強，適合復雜圖形的轉移，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現優異。
3. 納米壓印光刻膠（JT-2000）
   應用場景：第三代半導體（GaN、SiC）芯片、量子點器件及微流控芯片的制造。特點：耐高溫（250℃）、耐酸堿，支持納米級精度圖案復制，降低芯片的制造成本。

吉田半導體柯圖泰全系列感光膠：進口品牌品質，本地化服務支持

負性光刻膠的工藝和應用場景。汕頭制版光刻膠

吉田半導體的自研產品已深度融入國內半導體產業鏈：

• 芯片制造：YK-300 光刻膠服務中芯國際、長江存儲，支持國產 14nm 芯片量產。
• 顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達 15%，成為京東方、華星光電戰略合作伙伴。
• 新能源領域：無鹵無鉛焊片通過 UL 認證，批量應用于寧德時代儲能系統，年供貨量超 500 噸。

• 研發投入：年研發費用占比超 15%，承擔國家 02 專項課題，獲 “國家技術發明二等獎”。
• 產能規模：光刻膠年產能 5000 噸，納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%。
• 質量體系：通過 ISO9001、IATF 16949 等認證，生產過程執行 8S 管理，批次穩定性達 99.5%。