Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特別高分辨率的3D無掩模光刻技術，用于快速，特別高精度的微納加工，可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討增材制造技術的行業發展。上海超高速增材制造設備

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。上海超高速增材制造設備Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討增材制造技術與產業的發展及前景分析。

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。

    采用增材制造技術的情況下，導管的設計空間得以提升，例如可以設計為擁有螺旋形狀的結構，可以將導管橫截面設計為多邊形，也可以在部件內集成多個導管，至少一個可具有圓形橫截面，還可以再導管內表面上制造一組凸起的表面特征，這組凸起的表面特征可以延伸到導管的內部區域中。與傳統設計及制造方式相比，3D打印導管可以設計為復雜的形狀、輪廓和橫截面，這是使用常規減法制造技術（例如，鉆孔）無法實現的。在設計時可以將冷卻部件設計成更接近理想的幾何形狀，從而改進流體系統的熱性能。另外，3D打印技術能夠有效控制導管的內表面光潔度及其特征，起到影響流體的流動特性的作用，通過改變導管的內表面特征，可以改變流動特性（例如湍流），這是傳統設計的導管所無法實現的。 增材制造方法是什么，歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的排名在前的開發商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D 打印機，用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產品線，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統 (MEMS) 應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和 Nanoscribe 專有的雙光子灰度光刻 (2GL) 技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何 2.5D 或 3D 形狀的結構，在面積達 25 cm2 的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您深度解讀增材制造技術。上海超高速增材制造設備

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如今，金屬增材制造正在急劇地改變產品制造的方式。傳統的制造是將完整的金屬材料用數控機床來進行減材加工，后續得到實體零件，其過程去除了大量的材料；而金屬增材制造是使用三維數字模型直接打印產品的一種生產方式，將金屬粉末材料，按照燒結、熔融、噴射等方式逐層堆積，制造出實體物品。增材制造與傳統制造有著巨大的不同，簡化后的生產方式突破傳統結構設計的限制，將生產復雜結構與優化產品性能成為可能。這提升了廠家的生產彈性、縮短生產周期，并將真正的創新思維帶入產品之中。有了增材制造技術，過去只存在于想象中、被視為不可能生產的各種產品，終于能夠被實現。上海超高速增材制造設備