在半導體芯片制造這一復雜且精細的領域，從芯片光刻、蝕刻到沉積、封裝等每一步，都對環境條件有著近乎嚴苛的要求，而精密環控柜憑借其性能成為保障生產的關鍵要素。芯片光刻環節，光刻機對環境穩定性要求極高。哪怕 0.002℃的溫度波動，都可能使光刻機內部的精密光學元件因熱脹冷縮產生細微形變，導致光路偏差，使光刻圖案精度受損。精密環控柜憑借超高精度溫度控制，將溫度波動控制在極小范圍，確保光刻機高精度運行，讓芯片光刻圖案正常呈現。為滿足多樣化需求，箱體采用高質量鈑金材質，可按需定制外觀顏色。吉林溫濕度實驗環境

電子萬能試驗機，作為材料力學性能測試設備，在金屬材料研發、塑料制品質量檢測等眾多領域廣泛應用。它能夠開展材料拉伸、壓縮、彎曲等力學性能測試，為產品質量把控與材料特性研究提供關鍵數據支撐。然而，環境溫濕度的波動對其影響極大。溫度波動時，試驗機力傳感器的精度首先受到沖擊，測量的力值出現偏差，同時還會改變材料自身的力學性能，例如金屬在高溫下屈服強度降低，導致測試結果無法真實反映材料特性。濕度波動時，試驗機的夾具、傳動部件極易生銹腐蝕，致使對試樣的夾持穩定性大打折扣，加載均勻性也難以保證，進一步降低測試精度。細胞溫濕度實驗環境在生物制藥研發中，該設備能準確調控環境，助力藥物成分穩定，保障實驗結果可靠。

在科研與工業制造等眾多領域，光學儀器如激光干涉儀、光學顯微鏡、電子顯微鏡等，發揮著無可替代的關鍵作用，而它們對運行環境的要求極為苛刻，尤其是溫濕度、潔凈度以及抗微震性能。精密環控柜的出現，為這些精密儀器提供了理想的運行環境。以激光干涉儀為例，其憑借納米級別的高精度測量能力，在諸多精密領域不可或缺。但它對溫度極度敏感，哪怕有 0.01℃的溫度波動，由于儀器主體與測量目標熱脹冷縮程度的差異，會造成測量基線改變，致使測量位移結果出現偏差。精密環控柜憑借超高精度溫度控制，將溫度波動控制在極小范圍，有力保障了激光干涉儀測量的準確性。

光刻設備對溫濕度的要求也極高，光源發出的光線需經過一系列復雜的光學系統聚焦到硅片表面特定區域，以實現對光刻膠的曝光，將設計好的電路圖案印制上去。當環境溫度出現極其微小的波動，哪怕只是零點幾攝氏度的變化，光刻機內部的精密光學元件就會因熱脹冷縮特性而產生細微的尺寸改變。這些光學元件包括鏡片、反射鏡等，它們的微小位移或形狀變化，會使得光路發生偏差。原本校準、聚焦于硅片特定坐標的光線，就可能因為光路的改變而偏離預定的曝光位置，出現曝光位置的漂移。精密環境控制設備內部溫度規格設定為 22.0 °C 且可靈活調節，以滿足不同控溫需求。

在航天器電子元器件的制造和裝配過程中，精密環控柜的作用同樣關鍵。電子元器件對靜電、潔凈度以及溫濕度都十分敏感。靜電可能會擊穿電子元件，導致其損壞；而不合適的溫濕度條件會影響電子元件的性能和可靠性。精密環控柜通過配備高效的靜電消除裝置以及精確的溫濕度控制系統，為電子元器件的生產提供了一個穩定、潔凈且無靜電干擾的環境。這不僅保證了電子元器件在制造過程中的質量，也提高了其在航天器復雜空間環境下的穩定性和可靠性，為我國航空航天事業的蓬勃發展奠定了堅實基礎。涉及超高精度的測量環境要求，如±0.01-0.1℃ , 甚至更高波動要求，則需要搭建精密環控系統。上海0.5℃溫濕度

精密環控設備為光刻機、激光干涉儀等精密測量、精密制造設備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環境。吉林溫濕度實驗環境

在精密機械加工領域，高精度數控機床是加工航空發動機葉片等關鍵零部件的重要裝備，其加工精度直接影響航空發動機性能。溫濕度波動對加工過程影響明顯。若溫度不穩定，機床的主軸、導軌等關鍵部件會因熱脹冷縮產生熱變形，導致刀具切削路徑偏離預設軌跡，加工出的葉片曲面精度無法達到設計標準，進而影響發動機性能。當車間濕度升高，金屬切削刀具容易生銹，刀具使用壽命縮短，且加工表面粗糙度增加，難以滿足精密零件對表面質量的嚴格要求 。吉林溫濕度實驗環境