主要優勢與特性 環保合規 ? 符合全球環保標準(如歐盟RoHS、中國《電器電子產品有害物質限制使用管理辦法》),從源頭杜絕鉛污染,保護人體健康與生態環境。 高性能焊接 ? 耐高溫性:在25...
家庭小實驗:錫片的「抗銹能力」 將兩片相同大小的錫片與鐵片同時浸入5%鹽水,24小時后鐵片布滿紅銹,而錫片表面只有出現極淺的灰白色氧化斑——這直觀展示了錫的電極電位優勢(比鐵高0.3V),使其在電化學腐蝕中更「被動」。 廚房小...
? 化學反應: ? 正性膠:曝光后光敏劑(如重氮醌DQN)分解,生成羧酸,在堿性顯影液中溶解; ? 負性膠:曝光后光敏劑引發交聯劑與樹脂形成不溶性網狀結構。 5. 顯影(Development) ...
主要應用場景 消費電子 ? 手機、筆記本電腦主板:焊接微型芯片(如BGA、QFP),保障信號傳輸穩定與長期使用可靠性。 ? 可穿戴設備(智能手表、耳機):超薄錫片焊點適配微型化、柔性電路板,滿足...
耐腐蝕性在不同場景中的體現 1. 食品與醫藥包裝領域 ? 抗有機酸與弱堿腐蝕: 錫對食品中的有機酸(如檸檬酸、醋酸)、弱堿及中性溶液有極強抗性,不會發生明顯腐蝕或溶出有害物質。例如: ? 鍍錫鋼板(馬口...
電子世界的「連接」 手機主板的「納米級焊點」:組裝一部智能手機需300-500個錫片焊點,直徑只有0.1mm。這些焊點通過回流焊工藝(240℃高溫持續30秒)將處理器、攝像頭模組與電路板熔接,經跌落測試(1.5米摔落10次)仍保持導電...
先進制程瓶頸突破 KrF/ArF光刻膠的量產能力提升直接推動7nm及以下制程的國產化進程。例如,恒坤新材的KrF光刻膠已批量供應12英寸產線,覆蓋7nm工藝,其工藝寬容度較日本同類型產品提升30%。這使得國內晶圓廠(如中芯國際)在DUV多重曝光技術...
憑借綠色產品與可持續生產模式,吉田半導體的材料遠銷全球,并與多家跨國企業建立長期合作。其環保焊片與靶材被廣泛應用于光伏、儲能等清潔能源領域,助力客戶實現產品全生命周期的環境友好。公司通過導入國際標準認證(如 ISO14001 環境管理體系),進一步強化了在...
光刻膠系列: 厚板光刻膠 JT - 3001,具備優異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,符合歐盟 ROHS 標準,保質期 1 年; 水油光刻膠 SR - 3308,容量 5L;SU - 3 負性光刻膠,分辨率優異,對比度良好,曝光靈敏度高,光源適應...
廣東吉田半導體材料有限公司成立于松山湖經濟技術開發區,是一家專注于半導體材料研發、生產與銷售的技術企業。公司注冊資本 2000 萬元,擁有 23 年行業經驗,產品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等,服務全球市場并與多家...
正性光刻膠 半導體分立器件制造:對于二極管、三極管等半導體分立器件,正性光刻膠可實現精細的圖形化加工,滿足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件時,正性光刻膠憑借其高分辨率和良好對比度,能精確刻畫器件的結構,提高器件性能。 ...
市場與客戶優勢:全球化布局與頭部客戶合作 全球客戶網絡 產品遠銷全球,與三星、LG、京東方等世界500強企業建立長期合作,在東南亞、北美市場市占率超15%。 區域市場深耕 依托東莞松山湖產業集群,...
半導體集成電路 ? 應用場景: ? 晶圓制造:正性膠為主(如ArF/EUV膠),實現20nm以下線寬,用于晶體管柵極、接觸孔等精細結構; ? 封裝工藝:負性膠用于凸點(Bump)制造,厚膠(5-50μm)耐...
吉田半導體水性感光膠 JT-1200:水油兼容,鋼片加工精度 ±5μm JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題,提升汽車電子部件制造精度。 針對汽車電子鋼片加工需求,吉田半導體研發的 JT-1200 水性感光膠實現水油兼容性達 100%,加工精度...
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品,各有特性與優勢,適用于不同領域。 厚板光刻膠 JT - 3001:具有優異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標準,保質期 1 年,適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,如一些特...
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品,主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領域的需求。 厚板光刻膠:JT-3001 型號,具有優異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標準,保質期 1 年。適...
吉田半導體 SU-3 負性光刻膠:國產技術賦能 5G 芯片封裝 自主研發 SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對 5G 芯片封裝需求,吉田半導體自主研發 SU-3 負性光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻...
行業地位與競爭格局 1. 國際對比 ? 技術定位:聚焦細分市場(如納米壓印、LCD),而國際巨頭(如JSR、東京應化)主導半導體光刻膠(ArF、EUV)。 ? 成本優勢:原材料自主化率超80%,成...
廣東吉田半導體材料有限公司成立于 2023 年,總部位于東莞松山湖經濟技術開發區,注冊資本 2000 萬元。作為高新企業和廣東省專精特新企業,公司專注于半導體材料的研發、生產與銷售,產品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶...
綠色制造與循環經濟 公司采用水性光刻膠技術,溶劑揮發量較傳統產品降低60%,符合歐盟REACH法規和國內環保標準。同時,其光刻膠廢液回收項目已投產,通過膜分離+精餾技術實現90%溶劑循環利用,年減排VOCs(揮發性有機物)超100噸。 ...
市場與客戶優勢:全球化布局與頭部客戶合作 全球客戶網絡 產品遠銷全球,與三星、LG、京東方等世界500強企業建立長期合作,在東南亞、北美市場市占率超15%。 區域市場深耕 依托東莞松山湖產業集群,...
吉田半導體 YK-300 正性光刻膠:半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于半導體芯片前道工藝...
納米制造與表面工程 ? 納米結構模板:作為納米壓印光刻(NIL)的母版制備材料,通過電子束光刻膠寫出高精度納米圖案(如50nm以下的柱陣列、孔陣列),用于批量復制微流控芯片或柔性顯示基板。 ? 表面功能化:在基底表面構建納米...
? 化學反應: ? 正性膠:曝光后光敏劑(如重氮醌DQN)分解,生成羧酸,在堿性顯影液中溶解; ? 負性膠:曝光后光敏劑引發交聯劑與樹脂形成不溶性網狀結構。 5. 顯影(Development) ...
晶圓制造(前道工藝) ? 功能:在硅片表面形成高精度電路圖形,是光刻工藝的主要材料。 ? 細分場景: ? 邏輯/存儲芯片:用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠(分辨率0.25-1μm)、14n...
吉田半導體 SU-3 負性光刻膠:國產技術賦能 5G 芯片封裝 自主研發 SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對 5G 芯片封裝需求,吉田半導體自主研發 SU-3 負性光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻...
工藝流程 ? 目的:去除基板表面油污、顆粒,增強感光膠附著力。 ? 方法: ? 化學清洗(硫酸/雙氧水、去離子水); ? 表面處理(硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,PCB基板...
廣東吉田半導體材料有限公司的產品體系豐富且功能強大。 在光刻膠領域,芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環節提供關鍵支持,確保芯片線路的精細刻畫; 納米壓印光刻膠適用于微納加工,助力制造超精細的微納結構; LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產...
國產替代進程加速 日本信越化學因地震導致KrF光刻膠產能受限后,國內企業加速驗證本土產品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產線2024年12月獲兩家大廠百萬大單,二期300噸生產線在建。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數接近日本UV1610,已通...
廣東吉田半導體材料有限公司成立于 2023 年,總部位于東莞松山湖經濟技術開發區,注冊資本 2000 萬元。作為高新企業和廣東省專精特新企業,公司專注于半導體材料的研發、生產與銷售,產品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶...