焊點缺陷控制不同 無鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 常見缺陷 易出現 焊點空洞、裂紋、不潤濕(因冷卻收縮率大,約2.1%),尤其在BGA等大面積焊點中風險高。 主要缺陷為 虛焊、短路(因操作不當),收縮率低(1.4%),裂紋風險低。 ...
設備與工具要求不同 無鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 焊接設備 需適配高溫的設備:- 回流焊爐:需更高溫區(如峰值溫度255℃~265℃)- 波峰焊:需耐鉛-free焊料的鈦合金焊料槽(普通銅槽易被錫腐蝕)- 手工焊臺:功率≥60W,帶溫度...
市場拓展 ? 短期目標:2025年前實現LCD光刻膠國內市占率10%,半導體負性膠進入中芯國際、華虹供應鏈,納米壓印膠完成臺積電驗證。 ? 長期愿景:成為全球的半導體材料方案提供商,2030年芯片光刻膠營收占比超40...
綠色制造與循環經濟 公司采用水性光刻膠技術,溶劑揮發量較傳統產品降低60%,符合歐盟REACH法規和國內環保標準。同時,其光刻膠廢液回收項目已投產,通過膜分離+精餾技術實現90%溶劑循環利用,年減排VOCs(揮發性有機物)超100噸。 ...
根據已有信息,錫片的常見規格主要按厚度范圍和應用場景劃分 按應用場景細分的規格 錫片的分類和應用場景。天津預成型錫片報價 應用場景 常見厚度范圍 特殊要求 電子焊接與封裝 0.03~0.1mm(純錫箔) 高純度(≥99.99%)、表面無...
技術優勢:23年研發沉淀與細分領域突破 全流程自主化能力 吉田在光刻膠研發中實現了從樹脂合成、光引發劑制備到配方優化的全流程自主化。例如,其納米壓印光刻膠通過自主開發的樹脂體系,實現了3μm的分辨率,適用于MEMS傳感器、光學...
吉田半導體 YK-300 正性光刻膠:半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于半導體芯片前道工藝...
市場拓展 ? 短期目標:2025年前實現LCD光刻膠國內市占率10%,半導體負性膠進入中芯國際、華虹供應鏈,納米壓印膠完成臺積電驗證。 ? 長期愿景:成為全球的半導體材料方案提供商,2030年芯片光刻膠營收占比超40...
應用場景 半導體集成電路(IC)制造: ? 邏輯芯片(CPU/GPU):在28nm以下制程中,正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細圖案化(如10nm節點線寬只有100nm)。 ? 存儲...
研發投入 ? 擁有自己實驗室和研發團隊,研發費用占比超15%,聚焦EUV光刻膠前驅體、低缺陷納米壓印膠等前沿領域,與中山大學、華南理工大學建立產學研合作。 ? 專項布局:累計申請光刻膠相關的項目30余項,涵蓋樹脂合成...
廣東吉田半導體材料有限公司憑借技術創新與質量優勢,在半導體材料行業占據重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產品,其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強酸強堿環境,適用于高精度納米結構制造;LCD 光刻膠以高穩定性和精細度成為顯示面板行業的推薦材料。...
國家大基金三期:注冊資本3440億元,明確將光刻膠列為重點投資領域,計劃投入超500億元支持樹脂、光引發劑等原料研發,相當于前兩期投入總和的3倍。 地方專項政策:湖北省對通過驗證的光刻膠企業給予設備采購補貼+稅收減免,武漢太紫微憑借全流程...
鋰電池的「儲鋰新希望」:科研團隊開發的錫碳合金負極片(錫含量50%),利用錫的「合金化儲鋰」機制(每克錫可嵌入4.2個鋰原子),使電池能量密度從180mAh/g提升至350mAh/g,未來有望讓電動車續航突破1000公里。 3D打印的...
不同光刻膠類型的適用場景對比 類型 波長范圍 分辨率 典型應用產品 G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導體JT-100系列 KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片...
厚板光刻膠 電路板制造:在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時,厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩定性,比如汽車電子、工業控制等領域的電路板,能承受復雜環境和大電流、高電壓等工況。 功率器件制造:像絕緣柵雙極晶體管(IGBT)...
國際廠商策略調整 應用材料公司獲曝光后處理,可將光刻膠工藝效率提升40%。杜邦因反壟斷調查在中國市場面臨壓力,但其新一代乾膜式感光型介電質材料(CYCLOTENE DF6000 PID)仍在推進,試圖通過差異化技術維持優勢。日本企業則通過技術授權(...
產品特點:耐溶劑型優良,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,流平性好,涂布性能優良;經特殊乳化聚合技術處理,網版平滑、無白點、無沙眼、亮度高;剝膜性好,網版可再生使用;解像性、高架橋性好,易做精細網點和線條;感光度高,曝光時間短,曝光寬容度大,節省網版...
焊片(錫基焊片)主要特性 材料與性能 ? 高純度合金:采用進口原材料,錫基合金純度高(如Sn96.5/Ag3.0/Cu0.5等配比),雜質含量低,確保焊接界面低缺陷、高可靠性。 ? 工藝控制:通...
工業制造與材料加工 襯墊與密封材料 ? 錫片因延展性強、耐低溫,可作為高溫或高壓環境下的密封墊片(如管道連接、機械部件密封),尤其適合需要無火花、低摩擦的場景(如易燃易爆環境)。 合金基材與鍍層 ...
不同光刻膠類型的適用場景對比 類型 波長范圍 分辨率 典型應用產品 G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導體JT-100系列 KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片...
國際廠商 1. Alpha Assembly Solutions(美國,日立化成子公司) ? 產品定位:全球比較大的焊接材料供應商之一,焊片產品線覆蓋全場景。 ? 技術優勢: ...
市場拓展 ? 短期目標:2025年前實現LCD光刻膠國內市占率10%,半導體負性膠進入中芯國際、華虹供應鏈,納米壓印膠完成臺積電驗證。 ? 長期愿景:成為全球的半導體材料方案提供商,2030年芯片光刻膠營收占比超40...
差異化競爭策略 在高級市場(如ArF浸沒式光刻膠),吉田半導體采取跟隨式創新,通過優化現有配方(如提高酸擴散抑制效率)逐步縮小與國際巨頭的差距;在中低端市場(如PCB光刻膠),則憑借性價比優勢(價格較進口產品低20%-30%)快速搶占份額,2023...
材料科學:從「單一金屬」到「智能合金」 錫片的進化史是材料科學的縮影:從純錫的延展性利用,到Sn-Pb共晶合金的焊接,再到SAC無鉛合金的成分設計,每一次突破都源于對「原子間作用力」的深入理解,展現了人類從「試錯研發」到「調控」的科技進步。 ...
工藝流程 ? 目的:去除基板表面油污、顆粒,增強感光膠附著力。 ? 方法: ? 化學清洗(硫酸/雙氧水、去離子水); ? 表面處理(硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,PCB基板...
光刻膠的納米級性能要求 超高分辨率:需承受電子束(10keV以上)或EUV(13.5nm波長)的轟擊,避免散射導致的邊緣模糊,目前商用EUV膠分辨率已達13nm(3nm制程)。 低缺陷率:納米級結構對膠層中的顆粒或化學不...
行業標準與認證 ? 歐盟RoHS指令:限制鉛等6種有害物質,無鉛錫片鉛含量需≤0.1%(質量比)。 ? JEDEC J-STD-006B:定義無鉛焊料的成分、物理性能及測試方法,指導行業規范應用。 ...
半導體集成電路 ? 應用場景: ? 晶圓制造:正性膠為主(如ArF/EUV膠),實現20nm以下線寬,用于晶體管柵極、接觸孔等精細結構; ? 封裝工藝:負性膠用于凸點(Bump)制造,厚膠(5-50μm)耐...
耐腐蝕性的化學機制 表面氧化膜的保護作用 ? 錫(Sn)在常溫下與空氣中的氧氣反應,生成一層致密的二氧化錫(SnO?)薄膜,該膜附著性強,能有效阻止氧氣和水汽進一步滲透至金屬內部,形成“自我保護”機制。 ...
主要優勢與特性 環保合規 ? 符合全球環保標準(如歐盟RoHS、中國《電器電子產品有害物質限制使用管理辦法》),從源頭杜絕鉛污染,保護人體健康與生態環境。 高性能焊接 ? 耐高溫性:在25...