íatendráunapendientehaciaeldepósitotalquepermitalaevacuacióndeposiblescondensadosycomomínimoéstaseráádisponerdeunaválvuladecie...
所述制備裝置主體的內部中間部位活動連接有高效攪拌裝置,所述制備裝置主體的一側中間部位嵌入連接有翻折觀察板,所述制備裝置主體的底端固定連接有裝置底座,所述裝置底座的內部底部固定連接有成品罐,所述裝置底座的頂端一側固定連接有鹽酸裝罐,所述裝置底座的頂端另一...
0HT260WXC-100CELLHT260WX2-101MV238FHB-N10MV238FHM-N10HT236F01-100HT236F03-100HM236WU1-100HM236WU1-400HM236WU3-100HM236WU3-110H
本發明涉及剝離液技術領域:,更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術::電子行業飛速發展,光刻膠應用也越來越。在半導體元器件制造過程中,經過涂敷-顯影-蝕刻過程,在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后,必須在除去殘余光刻膠的同時不能損傷任...
本發明涉及半導體制造領域,特別是涉及一種用于包括但不限于半導體生產工藝中光刻膠去除步驟的光刻膠剝離去除方法。背景技術:光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料,是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的也稱為光致抗蝕劑、...
砷化鎵也有容易被腐蝕的特點,比如堿性的氨水、酸性的鹽酸、硫酸、硝酸等。去膠,也成為光刻膠的剝離。即完成光刻鍍膜等處理之后,需要去除光刻膠之后進行下一步。有時直接采用+異丙醇的方式就可以去除。但是對于等離子體處理過的光刻膠,一般就比較難去除干凈。有的人把加...
該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分別為總質量的%、%。實施例2本發明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制,先稱取濃度為85%的磷酸,然后稱取添加劑加入磷酸中,該實施例中所...
該擋液板結構10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12,以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,其主要特征在于:該第二擋板12具有復數個貫穿該第二擋板12且錯位設置的宣泄孔121。該***擋板11與該第二擋板12呈正交設置,且...
對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例,基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。實施例一,請...
所述九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟異丁基烷基醚組成。5.權利要求14中任一項的組合物,特征在于,所述組合物是共沸的或共沸型的。6.權利要求5的組合物,特征在于,所述組合物包含515重量%的甲基四氫呋喃和8595重量%的九氟丁基甲基醚。7.共...
所述功能切換口外部并聯有高純水輸入管線和沉淀劑輸入管線,所述二級過濾罐的底部設有廢液出口,所述一級過濾罐和二級過濾罐內部均懸設有攔截固體成分的過濾筒。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置,所述一級過濾罐和二級過濾罐的結構相同,均由外殼、懸設于外殼內的過濾筒、扣...
避免連接構件11的兩側與操作人員的手接觸的時候,會因操作人員的手沾濕出現手滑的情況,有效的保證了裝置內部構件的連接工作能正常的進行。推薦的,支撐腿2的底端嵌入連接有防滑紋6,在制備蝕刻液的時候,需要將裝置固定的特定的位置,通過支撐腿2將裝置主體1進行支...
該宣泄孔121的上孔徑a1與下孔徑a2亦不相等,且該上孔徑a1小于該下孔徑a2,或該宣泄孔121由該第二擋板12的下表面122朝向上表面123的方向漸縮,以維持毛細現象而避免該藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題。當該風刀裝置40的***風刀4...
本發明提供的光刻膠剝離去除方法第二實施例,用于半導體制造工藝中,可應用于包括但不限于mos、finfet等所有現有技術中涉及光刻膠剝離去除的生產步驟,主要包括以下步驟:s1,在半導體襯底上淀積一層二氧化硅薄膜作為介質層;s2,旋涂光刻膠并曝光顯影,形成...
neutroyconductordeproteccióónentreloselementosdelsurtidor(emisordeimpulsos,solenoides,calculador,etc.),seconsiderasuficientela...
內部頂部兩側的震蕩彈簧件14,震蕩彈簧件14頂端的運轉電機組13,運轉電機組13頂端的控制面板15,內部中間部位的致密防腐桿16和致密防腐桿16內部內側的攪動孔17共同組合而成,由于鹽酸硝酸具有較強的腐蝕性,常規的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質量,...
能夠增強親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤濕劑含有羥基,為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實施例對本申請作進一步詳細說明。以下實施例對本申請進行進一步說明,不應理解為對本申請的限制。表一:兩種不同組分的剝離液配方一和配...
濕電子化學品位于電子信息產業偏中上游的材料領域。濕電子化學品上游是基 礎化工產品,下游是電子信息產業(信息通訊、消費電子、家用電器、汽車電子、 LED、平板顯示、太陽能電池、**等領域)。濕電子化學品的生產工藝主要采用物 理的提純技術及混配技術,將工業級...
目前的平面顯示裝置,尤其是有機電激發光顯示器,多使用鉻金屬作為導線的材料。但是因為鉻金屬的阻值高,因此研究者一直在尋求利用阻值較低的金屬作為導線的材料。以往曾經有提議以銀作為平面顯示裝置的導線材料,但是因為無適當穩定的蝕刻液組成物,所以并未有***...
將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應的原料罐,備用;第三步:根據混酸配制表算出各個原料的添加量,按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調配罐,將上述混料充分攪拌,攪拌時間為3~5h;第四步:在第...
所述卷邊輥與所述膠面收卷輥通過皮帶連接,所述收卷驅動電機與所述膠面收卷輥通過導線連接。進一步的,所述電加熱箱與所述干燥度感應器通過導線連接,所述電氣控制箱與所述液晶操作面板通過導線連接。進一步的,所述主支撐架由合金鋼壓制而成,厚度為5mm。進一步的,所述干燥度...
技術實現要素:本實用新型所解決的技術問題即在于提供一種擋液板結構與以之制備的蝕刻設備,尤其是指一種適用于濕式蝕刻機的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產品損耗的擋液板結構與以之制備的蝕刻設備,主要借由具有復數個宣泄孔的擋液板結構搭配風刀裝置的硬體設計,有...
每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通,所述公共子管道501與所述下一級腔室102連通。其中,閥門開關60設置在每一子管道301上。在一些實施例中,閥門開關60設置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實施例中,閥...
參考圖7),這種殘余物在覆蓋一系列柵極堆棧薄膜之后會被增強呈現,傳遞到柵極成型工序時會對柵極圖形產生嚴重的影響,即在柵極曝光圖形成型之后形成埋層缺陷,在柵極刻蝕圖形成型之后造成柵極斷開或橋接,直接降低了產品良率。另外,在氧氣灰化階段,由于等離子氧可以穿...
從而可以在閥門開關60關閉后取下被阻塞的過濾器30進行清理并不會導致之后的下一級腔室102的剝離進程無法繼續。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級向玻璃基板分別提供剝離液;與多個腔室10分別對應連接的多個存儲箱20,各級腔室10分...
該方法包括:步驟110、將多級腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液;步驟120、將來自于當前級腔室經歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當前級腔室相應的存儲箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;步驟130、使用當前級腔室相應...
圖7:本實用新型蝕刻設備其一較佳實施例的擋液板結構運作局部放大圖。圖8:本實用新型蝕刻設備其一較佳實施例的擋液板結構結合風刀裝置示意圖。圖9:本實用新型蝕刻設備其一較佳實施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖10:本實用新型蝕刻設備其二較佳實施例的擋液板...
本發明涉及回收處理技術領域,具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術:廢銅蝕刻液含有可回收的金屬,所以需要進行回收處理,目前通用的做法是,使用化學方法回收廢液內的銅,或提煉成硫酸銅產品,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經濟效益不明顯,有二次污染污染物...
參考圖7),這種殘余物在覆蓋一系列柵極堆棧薄膜之后會被增強呈現,傳遞到柵極成型工序時會對柵極圖形產生嚴重的影響,即在柵極曝光圖形成型之后形成埋層缺陷,在柵極刻蝕圖形成型之后造成柵極斷開或橋接,直接降低了產品良率。另外,在氧氣灰化階段,由于等離子氧可以穿...
將蝕刻液通過回流管抽入到一號排液管中,并由進液管導入到伸縮管中,直至蝕刻液由噴頭重新噴到電解池中,可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉化為金屬銅,起到循環電解蝕刻液的作用;該回收處理裝置通過設置有伸縮管與伸縮桿,能夠在蝕刻液通過進液管流入到電解池中時,...