微流控芯片在石英和玻璃的加工中，常常利用不同化學方法對其表面改性，然后可以使用光刻和蝕刻技術將微通道等微結構加工在上面。玻璃材料的加工步驟與硅材料加工稍有差異，主要步驟有:1)在玻璃基片表面鍍一層 Cr，再用甩膠機均勻的覆蓋一層光刻膠；2)利用光刻掩模遮擋，用紫外光照射，光刻膠發生化學反應；3)用顯影法去掉已曝光的光膠，用化學腐蝕的方法在鉻層上腐蝕出與掩模上平面二維圖形一致的圖案；4)用適當的刻蝕劑在基片上刻蝕通道；5)刻蝕結束后，除去光刻膠，打孔后和玻璃蓋片鍵合。標準光刻和濕法刻蝕需要昂貴的儀器和超凈的工作環境，無法實現快速批量生產。微流控芯片技術用于基因測序。江蘇微流控芯片制作流程

微流控芯片加工的跨尺度集成技術與系統整合;公司突破單一尺度加工限制，實現納米級至毫米級結構的跨尺度集成，構建功能復雜的微流控系統。在芯片實驗室（Lab-on-a-Chip）中，納米級表面紋理（粗糙度 Ra＜50nm）促進細胞外基質蛋白吸附，微米級流道（寬度 50μm）控制流體剪切力，毫米級進樣口（直徑 1mm）兼容常規注射器，形成從分子到***層面的整合平臺。跨尺度加工結合多層鍵合技術，實現三維流道網絡與傳感器陣列的集成，例如血糖監測芯片集成微流道、酶電極與無線傳輸模塊，實時監測組織液葡萄糖濃度并遠程傳輸數據。該技術推動微流控芯片從單一功能器件向復雜系統進化，滿足前端醫療設備與智能傳感器的集成化需求。山西微流控芯片銷售電話10-100μm 幾十微米級微流控芯片可實現多樣化結構設計與精密加工。

微流控芯片的硅質材料加工工藝：是在硅材料的加工中，光刻(lithography)和濕法刻蝕(wetetching)技術是2種常規工藝。由于硅材料具有良好的光潔度和很成熟的加工工藝，主要用于加工微泵、微閥等液流驅動和控制器件，或者在熱壓法和模塑法中作為高分子聚合物材料加工的陽模。光刻是用光膠、掩模和紫外光進行微制造。光刻和濕法蝕刻技術通常由薄膜沉淀、光刻、刻蝕3個工序組成。在薄膜表面用甩膠機均勻地附上一層光膠。然后將掩模上的圖像轉移到光膠層上，此步驟首先在基片上覆蓋一層薄膜，為光刻。再將光刻上的圖像，轉移到薄膜，并在基片上加工一定深度的微結構，此步驟完成了蝕刻。

對于微流控芯片，必須將材料從微通道中放入和取出，還要從納升級流量的流體中獲得可靠信號。一些研究者建議將微流控技術與“中等流體”結合，——以小型化的方式附加到中等尺寸的設備中，可以濃縮樣品，易于檢測。生物學家還受他們所使用微孔板的幾何限制。Caliper和其他的一些公司正在開發可以將樣品直接從微孔板裝載至芯片的系統，但這種操作很具挑戰性。美國Corning公司Po Ki Yuen博士認為，要說服生產商將生產技術轉移到一個還未證明可以縮減成本的完全不同的平臺，是極其困難的。微流控芯片產業的深度分析。

腎臟組織微流控器官芯片（KoC）：傳統方法或常規方法的局限性，例如細胞功能和生理學的變化或不適當，使得腎單位的病理生理學研究不準確且容易出錯。相比之下，與微流控技術的集成已被證明可以產生更好和更精確的結果。KoC基本上是通過將腎小管細胞與微流控芯片技術相結合來制備的。它主要用于評估腎毒性。在臨床前階段能篩查出2%的失敗藥物，利用微流控技術能在臨床階段后檢測出約20%的失敗藥物。這證明了使用KoC在單個微型芯片上研究人類腎單位的合理性。基于MEMS發展而來的微流控芯片技術。上海微流控芯片客服電話

在微流控芯片上檢測所需要被檢測的樣本量體積往往只需要微升級別。江蘇微流控芯片制作流程

通過微流控芯片檢測，有助于改進診斷性能、發現尚未被識別的致病性自身抗體。隨著微流控免疫芯片的推廣，自身抗體檢測成為微流控免疫芯片的重要研究方向之一。此類芯片的設計不同于其他免疫芯片，用于自身抗體檢測的微流控芯片須將自身抗原固定在芯片表面。Matsudaira等人通過光活性劑將自身抗原共價固定在聚酯平板上，利用光照射誘導自由基反應實現固定，不需要自身抗原的特定官能團。Ortiz等人將3種自身抗體通過羧基端硫醇化而固定在聚酯表面，用于檢測乳糜瀉特異性自身抗體，該微流控芯片的敏感性接近商品化酶聯免疫吸附試驗試劑盒。江蘇微流控芯片制作流程