低溫等離子清洗機處理溫度低，全程無污染，處理效率高，可實現全自動在線生產。樣品表面經過短時間處理可以顯著提高材料表面能,親水性,處理效果均勻穩定。等離子活化是一種利用等離子體處理技術對材料表面進行活化處理的方法。等離子體具有對材料表面活化的作用，因為等離子體包含離子、原子、電子、分子、自由基和紫外光等多種具有高度活性的粒子。在這些高能粒子轟擊下，材料表面可能發生化學斷裂、重組，從而達到材料表面性能改變的目的。使用大腔體真空等離子可高效、均勻進行表面活化處理，提高潤濕性，從而提高粘接強度。上海晟鼎等離子清洗機售后服務

Plasma封裝等離子清洗機作為精密制造中的關鍵設備之一，其市場需求持續增長。特別是在微電子、半導體、光電、航空航天等高科技領域，Plasma封裝等離子清洗機的應用前景更加廣闊。據市場研究機構預測，未來幾年內，全球Plasma封裝等離子清洗機市場將保持快速增長態勢，年復合增長率將達到較高水平。同時，隨著技術的不斷成熟和成本的逐步降低，Plasma封裝等離子清洗機也將逐步向更廣泛的應用領域拓展，如生物醫藥、新能源、環保等領域。未來，隨著智能制造和工業互聯網的深入發展，Plasma封裝等離子清洗機將與其他智能制造設備實現無縫對接和協同工作，共同推動制造業向更高水平、更高質量發展。江蘇真空等離子清洗機設備等離子清洗機是一種環保高效的表面處理設備，通過激發氣體產生等離子態，去除材料表面污染物。

等離子清洗機(plasmacleaner)是高科技的一款表面處理設備，通過等離子體來達到表面處理的作用；獲得清洗、活化、刻蝕、涂層等多方向的應用，解決各種行業的表面處理難題。1、等離子清洗機原理密閉的反應腔體（真空室、真空腔體）被真空泵不斷抽氣，從1個標準大氣壓下降到設定的壓力值并維持真空度；通入氬、氫、氮氣等工藝氣體，啟動等離子發生器，讓反應腔體內電極之間產生高壓交變電場，使得自由電子能量加速，去激發工藝氣體分子形成等離子體，具有高反應活性或高能量的等離子體，會與有機污染物及微顆粒污染物反應、碰撞形成各種揮發性物質，這些揮發性物質伴隨工藝氣流由真空泵抽取出去，從而達到被處理對象表面清潔、活化等目的。

目前，在汽車發動機領域，油底殼與曲軸箱、曲軸箱與缸體等密封面通常采用硅膠密封，這些硅膠密封面常因殘留有機物(如珩磨油、切削液、清洗液等)造成硅膠的附著力不足，從而導致密封失效，發動機漏油。目前的常規工藝為涂膠前對涂膠面進行人工擦拭，而人工擦拭存在諸多缺點，無法達到清潔的要求。等離子清洗機的應用能夠很好地解決這些問題，目前已經應用到光學行業、航空工業、半導體業等領域，并成為關鍵技術，變得越來越重要。等離子清洗機發動機涂膠面上的應用：發動機涂膠面殘留的有機物薄膜，通常為碳氫氧化合物(CHO,);等離子清洗的過程如下:將壓縮空氣電離成低溫等離子體，通過噴槍噴射到涂膠表面，利用等離子體(主要利用壓縮空氣中的氧氣作為反應氣體)對有機物的分解作用，將涂膠表面殘留的有機物進行分解，以達到清潔目的。反應過程主要有兩種:第一種化學反應，將壓縮空氣電離后獲得大量氧等離子體:氧等離子體與有機物作用，把有機物(CHO,)分解成二氧化碳和水,CHyOz+O*→H20+CO2,二種是物理反應，壓縮空氣電離成等離子體后，等離子體內的高能粒子以高能量、高速度轟擊涂膠面表面，使分子分解。等離子清洗機利用高能粒子與有機材料表層產生的物理學或化學變化，以解決活性、蝕刻工藝等原材料表層問題。

汽車外飾件由各種材料組成:從定制的金屬坯件到SMC復合材料和玻璃纖維增強塑料(GFRP)再到復合塑料。這些原材料具有極為不同的表面性質。利用等離子體預處理可以取得穩定的材料結合和具有牢固粘接力的高質量面層。具體應用如下：在對由 PP/EPDM 復合物制成的保險杠進行噴漆之前的表面活化；對由 SMC 制成的翼子板進行等離子表面處理；嵌裝玻璃之前對陶瓷涂層進行等離子體超精細清洗；對鋁制框架進行等離子體超精細清洗以便對玻璃天窗進行防水粘接。等離子處理是一種常用的表面處理技術，通過在介質中產生等離子體，利用等離子體的高能離子轟擊表面。吉林國產等離子清洗機功能

等離子表面處理機常用的氣體為:空氣、氧氣、氬氣、氬氫混合氣體、CF4等。上海晟鼎等離子清洗機售后服務

光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位，其成本約占IC制造工藝的20-30%，光刻膠去膠效果太弱影響生產效率，去膠效果太強容易造成基底損傷，影響整個產品的成品率。傳統主流去膠方法采用濕法去膠，成本低效率高，但隨著技術不斷選代更新，越來越多IC制造商開始采用干法式去膠，干法式去膠工藝不同于傳統的濕法式去膠工藝，它不需要浸泡化學溶劑，也不用烘干，去膠過程更容易控制，避免過多算上基底，提高產品成品率。干法式去膠又被稱為等離子去膠，其原理同等離子清洗類似，主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環境中發生反應來去除光刻膠，由于光刻膠的基本成分是碳氫有機物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發生化學反應，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。等離子物理去膠過程:主要是物理作用對清洗物件進行轟擊達到去膠的目的，主要的氣體為氧氣、氬氣等，通過射頻產生氧離子，轟擊清洗物件，以獲得表面光滑的較大化，并且結果是親水性增大。上海晟鼎等離子清洗機售后服務