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來源: 發布時間:2025-06-17

    表%九氟丁基甲基醚和50重量%甲基四氫呋喃的液體混合物的分餾顯示出92重量%九氟丁基甲基醚和8重量%甲基四氫呋喃的共沸組合物,其在°C的沸點。實施例2如實施例1所述進行沸點測定方法。表II給出九氟丁基乙基醚和甲基四氫呋喃的各種混合物在。表II九氟丁基乙基醚的重量%甲基四氫呋喃的重量%(°C)%九氟丁基乙基醚和50重量%甲基四氫呋喃的液體混合物的分餾顯示出%九氟丁基乙基醚和%甲基四氫呋喃的共沸組合物,其在°C的沸點。清洗試驗的總體過程首先,用FORANE141b對2X5cm的不銹鋼片材進行脫脂。這些片材各自在測試之前稱重,其構成皮重。然后,在這些片材的單側上涂布油REDUCTELFSP460。對該涂布有油的片材進行稱重,并由與皮重的差值推算出涂布的油的量。接下來,將該涂布有油的片材浸5入到含有100ml待評價組合物的燒杯中5分鐘,不進行攪拌且無超聲。該片材一移出,就在通風的情況下進行15分鐘的滴干(dripdry),并且,在該15分鐘結束時,通過稱重測定油的殘留量。與油的初始量相比,計算移除的油的百分數。實施例3在使用九氟丁基甲基醚的組合物的情況下,得到0%的油移除率。實施例4在使用包含8重量%的2-MeTHF和92重量%的九氟丁基甲基醚的組合物的情況下。蘇州博洋化學股份有限公司擁有專業的BOE蝕刻液以及各種蝕刻液。湖南應用BOE蝕刻液推薦貨源

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    添加劑為二乙二醇單甲醚、三乙二醇乙醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分別為%、%、%。實施例6本發明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制,先稱取濃度為85%的磷酸,然后稱取添加劑加入磷酸中,該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、月桂酰氨乙基硫酸鈉,添加量分別為總質量的%、%、%。對照例對照例中所含成分顯示于表1,并采用與實施例相同的方法進行處理。對照例1為純磷酸,總質量為400g。對照例2為磷酸、丙二醇丁醚,其中丙二醇丁醚的添加量為總質量的%。對照例3為磷酸、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,其中脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p的添加量為總質量的%。結果如表2所示,與對照例蝕刻液相比,實施例蝕刻液有更低的表面張力和接觸角,并且氮化硅層蝕刻后顯示出良好的均勻性。表1表2顯然,上述實施例和對照例是為了清楚地說明所作的實例,而并非對實施方式的限制。對于所屬領域的技術人員來說,在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動,這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而因此所引申的顯而易見的變化或變動仍處于本發明創造的保護范圍之內。

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    本發明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,來改善磷酸的浸潤性和表面張力,使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術:氮化硅是一種具有很高的化學穩定性的絕緣材料,氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導體制造工藝中,一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻,一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導體制程的飛速發展,器件的特征尺寸越來越小,集成度越來越高,對制造工藝中的各工藝節點要求也越來越高,如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時,晶圓表面會出現不均勻的現象,體現于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時,檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現氮化硅層的均勻蝕刻。技術實現要素:本發明所要解決的技術問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,所述蝕刻液的組成包括:占蝕刻液總重量≥88%的磷酸、%的醇醚類、%的表面活性劑。進一步地,本發明涉及上述蝕刻液。蘇州BOE蝕刻液的價格。福建BOE蝕刻液私人定做

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