Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統，突破傳統面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制，通過創新狹縫物理衰減機制實現 10W 級激光直接測量，配合可疊加的單次（DL-LBA-1）與雙次（DL-LBA-2）取樣配件形成多級衰減方案，衰減達 10??，可測功率超 1000W。該系統采用 45° 傾斜設計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率，雙次配件內置雙片透鏡實現 0.16%-0.25% 取樣率，均配備 C 口通用接口和鎖緊環結構，支持任意角度入射光束檢測。其優化設計的 68mm（單次）和 53mm（雙次）取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器，解決傳統外搭光路光程不足問題，緊湊結構減少 70% 空間占用。系統覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍，通過 CE/FCC 認證，可在 - 40℃至 85℃環境穩定工作，已成功應用于工業激光加工（熱影響區≤30μm）、科研超快激光（皮秒脈沖分析）及醫療設備校準（能量均勻性誤差＜2%），幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本。發散較大，怎么測量光束質量？光斑分析儀測量

Dimension-Labs 推出 Beamhere 光束質量分析系統，針對激光加工、醫療設備等領域的光束質量評估需求。該系列產品通過多維度檢測模塊，可對光束能量分布進行實時可視化分析，同步獲取發散角、M2 因子等參數。支持光束整形效果驗證、聚焦光斑優化及準直系統校準三大典型應用場景，所有測試結果均符合 ISO11146 標準。可選配的 M2 測試模塊可實現光束傳播特性的全程分析，終由軟件自動生成量化評估報告。 產品優勢： 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。激光加工光斑分析儀價格多少光斑分析儀國產替代都有哪些廠家？

如何使用光斑分析儀 Step 1 準備設備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上，調整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦，打開 BeamHere 軟件等待設備識別。 Step 2 采集數據 開啟激光器預熱 10 分鐘，點擊軟件 "開始采集" 按鈕。實時觀察 2D 成像界面，確保光斑無過曝或欠曝，可通過轉輪調節衰減片至合適狀態。 Step 3 分析參數 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數，軟件自動計算光斑尺寸（±0.5μm 精度）、能量均勻性（CV 值）及光束質量因子。3D 視圖支持手勢縮放，便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗證結果 切換至 "歷史記錄" 對比多次測量數據，使用 "統計分析" 功能生成標準差曲線。若發現異常，可調用 "單點測量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導出報告 在 "報告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業版"，自動生成帶水印的 PDF 報告，包含光斑圖像、參數表格、趨勢圖表及 QC 判定結果。

Dimension-Labs 維度光電相機式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍，實現可見光與近紅外波段光斑的實時檢測。其優勢包括： 動態分析能力 支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態顯示，高幀率（100fps）連續測量模式可捕捉光斑瞬態變化，3D 視圖支持任意角度旋轉分析，為光學系統調試提供直觀數據支持。 復雜光斑適應性 基于面陣傳感器技術，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）及含高階橫模的復雜光斑，突破傳統掃描式設備的局限性。 功率調節 標配 6 片不同衰減率的濾光片（0.1%-100%），通過轉輪結構實現一鍵切換，可測功率達 10W/cm2，滿足從弱光器件到高功率激光的全量程需求。 科研級擴展性 采用模塊化設計，相機與濾光片轉輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅動軟件，支持科研成像、光譜分析等擴展應用，實現工業檢測與實驗室的一機多用。掃描狹縫光斑分析儀有國產的嗎？

維度光電作為全球激光測量領域解決商，致力于打造 "三橫三縱" 產品矩陣： 橫向覆蓋： 光譜范圍：190-2700nm 全波段 光斑尺寸：0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級：1μW-10W 全功率 縱向深度： 工業級：支持產線在線監測與自動化對接 醫療級：符合 ISO 13485 認證，保障臨床精度 科研級：開放 API 接口支持自定義算法 差異化優勢： 同時提供雙技術方案的廠商（狹縫式 + 相機式） AI 算法庫支持光束質量預測性維護 模塊化設計實現設備功能動態擴展 適合各類激光應用中激光光束質量測量與分析。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光光束的質量？大功率光斑分析儀制造商

無干涉條紋的光斑質量分析儀。光斑分析儀測量

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導體加工）優先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業切割）應選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態：高斯或規則光斑兩者均可（狹縫式更經濟），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機式保留細節。 脈沖特性：單脈沖分析選相機式（觸發同步），連續或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業制造：高功率加工（>1W）選狹縫式，動態監測與大光斑校準選相機式，組合方案可覆蓋全流程需求。 醫療設備：眼科準分子激光需相機式實時監測能量分布，脈沖激光適配觸發模式，確保手術精度。 ：超短脈沖測量、復雜光束分析（如 M2 因子）依賴相機式，材料加工優化可結合狹縫式高精度掃描。 光通信：光纖端面檢測選相機式分析光斑形態，激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量。光斑分析儀測量