Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內的刀口 / 狹縫雙模式切換技術，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，可測 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測極限。其創(chuàng)新設計實現(xiàn)三大優(yōu)勢： 雙模式自適應檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式，分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布，全量程無盲區(qū)。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機制允許單次通過狹縫區(qū)域光，無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實現(xiàn) 0.1μm 分辨率，完整捕捉亞微米級光斑細節(jié)，避免能量分布特征丟失。 設備內置正交狹縫轉動輪，通過旋轉掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據，經算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設計適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認證，適用于激光加工、醫(yī)療設備及科研領域，助力客戶提升光束質量檢測精度與效率。掃描和狹縫光斑分析儀怎么選？激光器光斑分析儀是什么

Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng)，突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制，通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量，配合可疊加的單次（DL-LBA-1）與雙次（DL-LBA-2）取樣配件形成多級衰減方案，衰減達 10??，可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率，雙次配件內置雙片透鏡實現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率，均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結構，支持任意角度入射光束檢測。其優(yōu)化設計的 68mm（單次）和 53mm（雙次）取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器，解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問題，緊湊結構減少 70% 空間占用。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍，通過 CE/FCC 認證，可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作，已成功應用于工業(yè)激光加工（熱影響區(qū)≤30μm）、科研超快激光（皮秒脈沖分析）及醫(yī)療設備校準（能量均勻性誤差＜2%），幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本。狹縫光斑分析儀要多少錢光斑分析儀維護成本？維度光電遠程指導維修，降低 80% 人工成本。

維度光電光束質量測量解決方案基于兩大技術平臺： 掃描狹縫式系統(tǒng)：采用正交狹縫轉動輪結構，通過 ±90° 旋轉實現(xiàn) XY 軸同步掃描，結合刀口 / 狹縫雙模式切換，突破亞微米級光斑檢測極限。光學系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測器，配合高斯擬合算法，實現(xiàn) 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復性。 相機式成像系統(tǒng)：搭載背照式 CMOS 傳感器（量子效率 95%@500-1000nm），結合非球面透鏡組消除畸變，支持皮秒級觸發(fā)同步與全局快門技術，捕捉單脈沖光斑形態(tài)。算法通過二階矩法計算 M2 因子，測量精度達 ±0.3%。 創(chuàng)新突破： 狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態(tài)范圍擴展技術支持 1μW-1W 寬功率檢測 AI 缺陷診斷模型自動識別光斑異常（率 97.2%）

維度光電-光斑分析儀的使用 科研場景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實驗平臺，使用觸發(fā)模式同步采集單脈沖光斑。 通過軟件 "時間序列分析" 功能，觀察脈沖序列中光斑形態(tài)變化。 調用 "光束質量評估" 模塊，計算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶自定義" 界面添加波長、脈寬等實驗參數(shù)，生成帶批注的報告。 工業(yè)場景 在激光切割設備光路中插入 BeamHere，選擇 "在線監(jiān)測" 模式。 實時顯示光斑橢圓率、能量分布均勻性等參數(shù)。 當檢測到光斑漂移超過閾值時，軟件自動觸發(fā)警報并記錄異常數(shù)據。 每日生成生產質量報表，統(tǒng)計良品率與設備穩(wěn)定性趨勢。用于激光加工測試的光斑質量分析儀。

維度光電作為全球激光測量領域解決商，致力于打造 "三橫三縱" 產品矩陣： 橫向覆蓋： 光譜范圍：190-2700nm 全波段 光斑尺寸：0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級：1μW-10W 全功率 縱向深度： 工業(yè)級：支持產線在線監(jiān)測與自動化對接 醫(yī)療級：符合 ISO 13485 認證，保障臨床精度 科研級：開放 API 接口支持自定義算法 差異化優(yōu)勢： 同時提供雙技術方案的廠商（狹縫式 + 相機式） AI 算法庫支持光束質量預測性維護 模塊化設計實現(xiàn)設備功能動態(tài)擴展 適合各類激光應用中激光光束質量測量與分析。光斑分析儀搭配什么 M2 因子測量模塊好？準直器生產光斑分析儀費用是多少

多光斑光束質量測量系統(tǒng)。激光器光斑分析儀是什么

Dimension-Labs 突破性推出 Beamhere 智能光斑分析平臺，通過模塊化設計實現(xiàn)光束質量全參數(shù)檢測。該系統(tǒng)采用高靈敏度傳感器陣列，可實時測繪光斑能量分布，同步計算發(fā)散角及 M2 因子等指標。針對光束整形、聚焦優(yōu)化等場景，系統(tǒng)提供專業(yè)分析模板，支持 ISO11146 標準參數(shù)輸出?？蛇x配的 M2 測試模塊通過滑軌式掃描技術，實現(xiàn)光束傳播特性的三維重建，終由 AI 算法自動生成包含能量集中度、橢圓率等 20 + 參數(shù)的測試報告。 產品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件。 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。激光器光斑分析儀是什么