直流磁控濺射所用的電源是直流高壓電源，通常在300～1000V，特點是濺射速率快，造價低，后期維修保養廉價?？墒侵荒転R射金屬靶材，假如靶材是絕緣體，隨著濺射的深化，靶材會聚集很多的電荷，導致濺射無法持續。因而關于金屬靶材通常用直流磁控濺射，因為造價廉價，結構簡略，目前在工業上使用普遍。脈沖磁控濺射是采用脈沖電源或者直流電源與脈沖生成裝置配合，輸出脈沖電流驅動磁控濺射沉積。一般使用矩形波電壓，既容易獲得又有利于研究濺射放電等離子體的變化過程。工作模式與中頻濺射。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。深圳智能磁控濺射平臺

磁控濺射的優點：（1）基板有低溫性。相對于二級濺射和熱蒸發來說，磁控濺射加熱少。（2）有很高的沉積率?？蔀R射鎢、鋁薄膜和反應濺射TiO2、ZrO2薄膜（3）環保工藝。磁控濺射鍍膜法生產效率高，沒有環境污染。（4）涂層很好的牢固性，濺射薄膜與基板，機械強度得到了改善，更好的附著力。（5）操作容易控制。鍍膜過程，只要保持壓強、電功率濺射條件穩定，就能獲得比較穩定的沉積速率。（6）成膜均勻。濺射的薄膜密度普遍提高。（7）濺射的金屬膜通常能獲得良好的光學性能、電學性能及某些特殊性能。（8）濺射可連續工作，鍍膜過程容易自動控制，工業上流水線作業。天津高溫磁控濺射方案磁控濺射設備的主要用途：各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。

磁控濺射的基本原理就是以磁場改變電子運動方向，束縛和延長運動路徑，提高電子的電離概率和有效地利用了電子的能量。因此在形成高密度等離子體的異常輝光放電中，正離子對靶材轟擊所引起的靶材濺射更加有效，同時受正交電磁場的束縛的電子只能在其能量將要耗盡時才能沉積在基片上，這就是磁控濺射具有低溫高速兩大特點的機理。磁控濺射的特點是成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實現大面積鍍膜。該技術可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法。

高速率磁控濺射的一個固有的性質是產生大量的濺射粒子而獲得高的薄膜沉積速率。高的沉積速率意味著高的粒子流飛向基片，導致沉積過程中大量粒子的能量被轉移到生長薄膜上，引起沉積溫度明顯增加。由于濺射離子的能量大約70%需要從陰極冷卻水中帶走，薄膜的較大濺射速率將受到濺射靶冷卻的限制。冷卻不但靠足夠的冷卻水循環，還要求良好的靶材導熱率及較薄膜的靶厚度。同時高速率磁控濺射中典型的靶材利用率只有20%～30%，因而提高靶材利用率也是有待于解決的一個問題。用真空磁控濺射鍍膜設備可在車窗玻璃鍍涂二氧化鈦，這個鍍層可以賦予車窗自清潔效果。

磁控濺射就是在外加電場的兩極之間引入一個磁場。這個磁場使得電子受到洛倫茲力的束縛作用，其運動路線受到控制，因此大幅度增加了電子與Ar分子（原子）碰撞的幾率，提高了氣體分子的電離程度，從而使濺射效率得到很大的提升。濺射現象自發現以來己被普遍應用在多種薄膜的制備中，如制備金屬、半導體、合金、氧化物以及化合物半導體等。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控濺射在技術上可以分為直流(DC)磁控濺射、中頻(MF)磁控濺射、射頻(RF)磁控濺射。磁控濺射法實現了高速、低溫、低損傷。上海單靶磁控濺射實驗室

磁控濺射的優點：基板低溫性。深圳智能磁控濺射平臺

電子元器件自主可控是指在研發、生產和保證等環節，主要依靠國內科研生產力量，在預期和操控范圍內，滿足信息系統建設和信息化發展需要的能力。電子元器件關鍵技術及應用，對電子產品和信息系統的功能性能影響至關重要，涉及到工藝、合物半導體、微納系統芯片集成、器件驗證、可靠性等。為進一步推動我國微納加工技術服務，真空鍍膜技術服務，紫外光刻技術服務，材料刻蝕技術服務的產業發展，促進新型微納加工技術服務，真空鍍膜技術服務，紫外光刻技術服務，材料刻蝕技術服務的技術進步與應用水平提高，在 5G 商用爆發前夕，2019 中國 5G 微納加工技術服務，真空鍍膜技術服務，紫外光刻技術服務，材料刻蝕技術服務重點展示關鍵元器件及設備，旨在助力微納加工技術服務，真空鍍膜技術服務，紫外光刻技術服務，材料刻蝕技術服務行業把握發展機遇，實現跨越發展。根據近幾年的數據顯示，中國已然成為世界極大的電子元器件市場，每年的進口額高達2300多億美元，超過石油進口金額。但是**根本的痛點仍然沒有得到解決——眾多的****企業，資歷不深缺少金錢，缺乏人才，渠道和供應鏈也是缺少，而其中困惱還是忠實用戶的數量。電子元器件加工是聯結上下游供求必不可少的紐帶，目前電子元器件企業商已承擔了終端應用中的大量技術服務需求，保證了原廠產品在終端的應用，提高了產業鏈的整體效率和價值。電子元器件行業規模不斷增長，國內市場表現優于國際市場，多個下**業的應用前景明朗，電子元器件行業具備廣闊的發展空間和增長潛力。深圳智能磁控濺射平臺