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大連PCB光刻膠生產(chǎn)廠家

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-06-18

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,提升行業(yè)生產(chǎn)效率,通過優(yōu)化材料配方與工藝,吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題,助力客戶降本增效。
針對(duì)傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴(yán)重等問題,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),在顯影過程中減少有機(jī)溶劑對(duì)有機(jī)半導(dǎo)體的損傷,使芯片良率提升至 99.8%。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本,推動(dòng)行業(yè)生產(chǎn)效率提升。吉田質(zhì)量管控與認(rèn)證壁壘。大連PCB光刻膠生產(chǎn)廠家

大連PCB光刻膠生產(chǎn)廠家,光刻膠

不同光刻膠類型的適用場(chǎng)景對(duì)比
類型 波長(zhǎng)范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品 
G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導(dǎo)體JT-100系列 
KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制備 吉田半導(dǎo)體YK-300系列 
ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片、OLED電極圖案化 國(guó)際主流:JSR ARF系列 
EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進(jìn)制程、3D NAND堆疊 研發(fā)中(吉田半導(dǎo)體合作攻關(guān)) 
水性光刻膠 全波長(zhǎng)適配 5-50μm 柔性顯示、環(huán)保PCB阻焊層 吉田半導(dǎo)體WT-200系列 

總結(jié):多領(lǐng)域滲透的“工業(yè)維生素”

光刻膠的應(yīng)用深度綁定電子信息產(chǎn)業(yè),從半導(dǎo)體芯片的“納米級(jí)雕刻”到PCB的“毫米級(jí)線路”,再到顯示面板的“色彩精細(xì)控制”,其技術(shù)參數(shù)(分辨率、耐蝕刻性、靈敏度)需根據(jù)場(chǎng)景設(shè)計(jì)。隨著**新能源(車規(guī)芯片、光伏)、新型顯示(Micro LED)、先進(jìn)制造(納米壓印)**等領(lǐng)域的發(fā)展,光刻膠的應(yīng)用邊界將持續(xù)擴(kuò)展,成為支撐制造的關(guān)鍵材料。
青海激光光刻膠品牌耐高溫光刻膠 JT-2000,250℃環(huán)境穩(wěn)定運(yùn)行,圖形保真度超 95%,用于納米結(jié)構(gòu)制造!

大連PCB光刻膠生產(chǎn)廠家,光刻膠

吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈:

  • 芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ),支持國(guó)產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。
  • 顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。
  • 新能源領(lǐng)域:無鹵無鉛焊片通過 UL 認(rèn)證,批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸。
  • 研發(fā)投入:年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,承擔(dān)國(guó)家 02 專項(xiàng)課題,獲 “國(guó)家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”。
  • 產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%。
  • 質(zhì)量體系:通過 ISO9001、IATF 16949 等認(rèn)證,生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理,批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時(shí),深化國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”。
從突破國(guó)際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎,走出了一條中國(guó)半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路。未來,公司將以更具競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品與技術(shù),助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階。

 原料準(zhǔn)備

? 主要成分:樹脂(成膜劑,如酚醛樹脂、聚酰亞胺等)、感光劑(光引發(fā)劑或光敏化合物,如重氮萘醌、光刻膠單體)、溶劑(溶解成分,如丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA))、添加劑(調(diào)節(jié)粘度、感光度、穩(wěn)定性等,如表面活性劑、穩(wěn)定劑)。

? 原料提純:對(duì)樹脂、感光劑等進(jìn)行高純度精制(純度通常要求99.9%以上),避免雜質(zhì)影響光刻精度。

 配料與混合

? 按配方比例精確稱量各組分,在潔凈環(huán)境,如萬(wàn)中通過攪拌機(jī)均勻混合,形成膠狀溶液。

? 控制溫度(通常20-30℃)和攪拌速度,避免氣泡產(chǎn)生或成分分解。

 過濾與純化

? 使用納米級(jí)濾膜(孔徑0.05-0.2μm)過濾,去除顆粒雜質(zhì)(如金屬離子、灰塵),確保膠液潔凈度,避免光刻時(shí)產(chǎn)生缺陷。

 性能檢測(cè)

? 物理指標(biāo):粘度、固含量、表面張力、分子量分布等,影響涂布均勻性。

? 化學(xué)指標(biāo):感光度、分辨率、對(duì)比度、耐蝕刻性,通過曝光實(shí)驗(yàn)和顯影測(cè)試驗(yàn)證。

? 可靠性:存儲(chǔ)穩(wěn)定性(常溫/低溫保存下的性能變化)、耐溫性(烘烤過程中的抗降解能力)。

 包裝與儲(chǔ)存

? 在惰性氣體(如氮?dú)猓┉h(huán)境下分裝至避光容器(如棕色玻璃瓶或鋁罐),防止感光劑氧化或光分解。

? 儲(chǔ)存條件:低溫(5-10℃)、避光、干燥,部分產(chǎn)品需零下環(huán)境(如EUV光刻膠)。
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 綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì)
公司采用水性光刻膠技術(shù),溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,符合歐盟REACH法規(guī)和國(guó)內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),通過膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用,年減排VOCs(揮發(fā)性有機(jī)物)超100噸。

 低碳供應(yīng)鏈管理
吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開發(fā)生物基樹脂,部分產(chǎn)品采用可再生原料(如植物基丙烯酸酯),碳排放強(qiáng)度較傳統(tǒng)工藝降低30%。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。
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吉田技術(shù)自主化與技術(shù)領(lǐng)域突破!大連PCB光刻膠生產(chǎn)廠家

  1. 客戶需求導(dǎo)向
    支持特殊工藝需求定制,例如為客戶開發(fā)光刻膠配方,提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持,尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢(shì)。
  2. 快速交付與售后支持
    作為國(guó)內(nèi)廠商,吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源,交貨周期較進(jìn)口品牌縮短 30%-50%,并提供 7×24 小時(shí)技術(shù)響應(yīng),降低客戶供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。
    性價(jià)比優(yōu)勢(shì)
    國(guó)產(chǎn)光刻膠價(jià)格普遍低于進(jìn)口產(chǎn)品 30%-50%,吉田半導(dǎo)體通過規(guī)模化生產(chǎn)和供應(yīng)鏈優(yōu)化進(jìn)一步壓縮成本,同時(shí)保持性能對(duì)標(biāo)國(guó)際品牌,適合對(duì)成本敏感的中低端市場(chǎng)及國(guó)產(chǎn)替代需求。
    政策與市場(chǎng)機(jī)遇
    受益于國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化趨勢(shì),吉田半導(dǎo)體作為 “專精特新” 企業(yè),獲得研發(fā)補(bǔ)貼及產(chǎn)業(yè)基金支持,未來在國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程中具備先發(fā)優(yōu)勢(shì)。
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