湖北油墨光刻膠
來源：
發(fā)布時間：2025-05-27
定義與特性
正性光刻膠是一種在曝光后，曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案一致的圖形。與負性光刻膠（未曝光區(qū)域溶解）相比，其優(yōu)勢是分辨率高、圖案邊緣清晰，是半導體制造（尤其是制程）的主流選擇。
化學組成與工作原理
主要成分
? 樹脂（成膜劑）：
? 傳統(tǒng)正性膠：采用**酚醛樹脂（Novolak）與重氮萘醌（DNQ，光敏劑）**的復合體系（PAC體系），占比約80%-90%。
? 化學增幅型（用于DUV/EUV）：含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物，搭配光酸發(fā)生器（PAG），通過酸催化反應提高感光度和分辨率。
? 溶劑：溶解樹脂和感光劑，常用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）或乳酸乙酯。
? 添加劑：表面活性劑（改善涂布均勻性）、穩(wěn)定劑（防止暗反應）、堿溶解度調(diào)節(jié)劑等。
工作原理
? 曝光前：光敏劑（如DNQ）與樹脂結(jié)合，形成不溶于堿性顯影液的復合物。
? 曝光時：
? 傳統(tǒng)PAC體系：DNQ在紫外光（G線436nm、I線365nm）照射下發(fā)生光分解，生成羧酸，使曝光區(qū)域樹脂在堿性顯影液中溶解性增強。
? 化學增幅型：PAG在DUV/EUV光下產(chǎn)生活性酸，催化樹脂發(fā)生脫保護反應，大幅提高顯影速率（靈敏度提升10倍以上）。
? 顯影后：曝光區(qū)域溶解去除，未曝光區(qū)域保留，形成正性圖案。
光刻膠新興及擴展應用。湖北油墨光刻膠
國家戰(zhàn)略支持
《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期規(guī)劃》將光刻膠列為重點投資領域，計劃投入超500億元支持研發(fā)。工信部對通過驗證的企業(yè)給予稅收減免和設備采購補貼，單家企業(yè)比較高補貼可達研發(fā)投入的30%。
地方產(chǎn)業(yè)協(xié)同
濟南設立寬禁帶半導體產(chǎn)業(yè)專項基金，深圳國際半導體光刻膠產(chǎn)業(yè)展覽會（2025年4月）吸引全球300余家企業(yè)參展，推動技術交流。
資本助力產(chǎn)能擴張
恒坤新材通過科創(chuàng)板IPO募資15億元，擴大KrF光刻膠產(chǎn)能并布局集成電路前驅(qū)體項目。彤程新材半導體光刻膠業(yè)務2024年上半年營收增長54.43%，ArF光刻膠開始形成銷售。
北京低溫光刻膠工廠光刻膠：半導體之路上的挑戰(zhàn)與突破。
國產(chǎn)替代進程加速
日本信越化學因地震導致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后，國內(nèi)企業(yè)加速驗證本土產(chǎn)品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產(chǎn)線2024年12月獲兩家大廠百萬大單，二期300噸生產(chǎn)線在建。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數(shù)接近日本UV1610，已通過中芯國際14nm工藝驗證。預計到2025年，國內(nèi)KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率將從不足5%提升至10%。
原材料國產(chǎn)化突破
光刻膠樹脂占成本50%-60%，八億時空的光刻膠樹脂產(chǎn)線預計2025年實現(xiàn)百噸級量產(chǎn)，其產(chǎn)品純度達到99.999%，金屬雜質(zhì)含量低于1ppb。怡達股份作為全球電子級PM溶劑前段（市占率超40%），與南大光電合作開發(fā)配套溶劑，打破了日本關東化學的壟斷。這些進展使光刻膠生產(chǎn)成本降低約20%。
供應鏈風險緩解
合肥海關通過“空中專線”保障光刻膠運輸，將進口周期從28天縮短至17天，碳排放減少18%。國內(nèi)在建12座光刻膠工廠（占全球總數(shù)58%），預計2025年產(chǎn)能達3000噸/年，較2023年增長150%。
感光機制
? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過交聯(lián)反應固化，適用于精細圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。
? SBQ型（單液型）：預混光敏劑，無需調(diào)配，感光度高（曝光時間縮短30%），適合快速制版（如服裝印花）。
? 環(huán)保型：采用無鉻配方（如CN10243143A），通過多元固化體系（熱固化+光固化）實現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光，分辨率達2μm，符合歐盟REACH標準。
功能細分
? 耐溶劑型：如日本村上AD20，耐酒精、甲苯等溶劑，適用于電子油墨印刷。
? 耐水型：如瑞士科特1711，抗水性強，適合紡織品水性漿料。
? 厚版型：如德國K?ppen厚版膠，單次涂布可達50μm，用于立體印刷。
典型應用場景：
? PCB制造：使用360目尼龍網(wǎng)+重氮感光膠，配合LED曝光（405nm波長），實現(xiàn)0.15mm線寬，耐酸性蝕刻液。
? 紡織印花：圓網(wǎng)制版采用9806A型感光膠，涂布厚度20μm，耐堿性染料色漿，耐印率超10萬次。
? 包裝印刷：柔版制版選用杜邦賽麗® Lightning LFH版材，UV-LED曝光+無溶劑工藝，碳排放降低40%。
光刻膠廠家推薦吉田半導體。
水性光刻膠（JT-1200）應用場景：環(huán)保要求高的電子元件（如醫(yī)療設備、汽車電子）的制造，以及柔性電路的生產(chǎn)。特點：以水為溶劑，低 VOC 排放，符合 RoHS 和 REACH 環(huán)保標準。
水油兩用光刻膠（JT-2001/SR-3308）適用于混合工藝場景（如部分環(huán)節(jié)需水性顯影，部分需溶劑顯影），提升生產(chǎn)靈活性。 松山湖半導體材料廠家吉田，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)！福建光刻膠
發(fā)展戰(zhàn)略與行業(yè)地位。湖北油墨光刻膠
研發(fā)投入
? 擁有自己實驗室和研發(fā)團隊，研發(fā)費用占比超15%，聚焦EUV光刻膠前驅(qū)體、低缺陷納米壓印膠等前沿領域，與中山大學、華南理工大學建立產(chǎn)學研合作。
? 專項布局：累計申請光刻膠相關的項目30余項，涵蓋樹脂合成、配方優(yōu)化、涂布工藝等細致環(huán)節(jié)。
生產(chǎn)體系
? 全自動化產(chǎn)線：采用德國曼茨（Manz）涂布設備、日本島津（Shimadzu）檢測儀器，年產(chǎn)能超500噸（光刻膠），支持小批量定制（小訂單100g）和大規(guī)模量產(chǎn)。
? 潔凈環(huán)境：生產(chǎn)車間達萬級潔凈標準（ISO 8級），避免顆粒污染，確保光刻膠缺陷密度<5個/cm2。
湖北油墨光刻膠
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