1. 客戶需求導向
   支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優化的全流程技術支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優勢。
2. 快速交付與售后支持
   作為國內廠商，吉田半導體依托松山湖產業集群資源，交貨周期較進口品牌縮短 30%-50%，并提供 7×24 小時技術響應，降低客戶供應鏈風險。
   性價比優勢
   國產光刻膠價格普遍低于進口產品 30%-50%，吉田半導體通過規?；a和供應鏈優化進一步壓縮成本，同時保持性能對標國際品牌，適合對成本敏感的中低端市場及國產替代需求。
   政策與市場機遇
   受益于國內半導體產業鏈自主化趨勢，吉田半導體作為 “專精特新” 企業，獲得研發補貼及產業基金支持，未來在國產替代進程中具備先發優勢。

廣東吉田半導體材料有限公司的產品體系豐富且功能強大。

在光刻膠領域，芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環節提供關鍵支持，確保芯片線路的精細刻畫；

納米壓印光刻膠適用于微納加工，助力制造超精細的微納結構；

LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產過程中的光刻需求，保障面板成像質量。

在電子焊接方面，半導體錫膏與焊片性能，能實現可靠的電氣連接，廣泛應用于各類電子設備組裝。

靶材產品在材料濺射沉積工藝中發揮關鍵作用，通過精細控制材料沉積，為半導體器件制造提供高質量的薄膜材料。憑借出色品質，遠銷全球，深受眾多世界 500 強企業和電子加工企業青睞 。 正性光刻膠的工藝和應用場景。

• YK-300 正性光刻膠：分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于 45nm 及以上制程，良率達 98% 以上，成本較進口產品降低 40%，已通過中芯國際量產驗證。
• SU-3 負性光刻膠：支持 3μm 厚膜加工，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，成功應用于高通 5G 基帶芯片封裝，良率提升至 98.5%。
• JT-2000 納米壓印光刻膠：突破 250℃耐高溫極限，圖形保真度 > 95%，性能對標德國 MicroResist 系列，已應用于國產 EUV 光刻機前道工藝。

耐高溫光刻膠 JT-2000，250℃環境穩定運行，圖形保真度超 95%，用于納米結構制造！四川光刻膠國產廠家

吉田半導體的光刻膠產品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領域，通過差異化技術（如納米壓印、厚膜工藝）和環保特性（水性配方），滿足從傳統電子到新興領域（如第三代半導體、Mini LED）的多樣化需求。其產品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝，還通過材料創新推動行業向綠色化、低成本化方向發展。吉田半導體光刻膠的優勢在于技術全面性、環保創新、質量穩定性及本土化服務，尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領域形成差異化競爭力。

四川光刻膠國產廠家