組成，FET由各種半導體構成，目前硅是較常見的。大部分的FET是由傳統塊體半導體制造技術制造，使用單晶半導體硅片作為反應區，或者溝道。大部分的不常見體材料，主要有非晶硅、多晶硅或其它在薄膜晶體管中，或者有機場效應晶體管中的非晶半導體。有機場效應晶體管基于有機半導體，常常用有機柵絕緣體和電極。我們知道三極管全稱為半導體三極管，也稱雙極型晶體管、晶體三極管，是一種電流控制型半導體器件，其作用是把微弱信號放大成幅度值較大的電信號， 也用作無觸點開關。JFET具有電路簡單、工作穩定的特點，適合于低頻放大器設計。肇慶強抗輻場效應管

這些電極的名稱和它們的功能有關。柵極可以被認為是控制一個物理柵的開關。這個柵極可以通過制造或者消除源極和漏極之間的溝道，從而允許或者阻礙電子流過。如果受一個加上的電壓影響，電子流將從源極流向漏極。體很簡單的就是指柵、漏、源極所在的半導體的塊體。通常體端和一個電路中較高或較低的電壓相連，根據類型不同而不同。體端和源極有時連在一起，因為有時源也連在電路中較高或較低的電壓上。當然有時一些電路中FET并沒有這樣的結構，比如級聯傳輸電路和串疊式電路。佛山場效應管批發價格場效應管的開關速度快，適用于需要快速響應的電路系統中。

場效應管應用場景：電路主電源開關，完全切斷，低功耗省電。大功率負載供電開關，如：電機，太陽能電池充電\放電，電動車電池充電逆變器SPWM波升壓部分功率電路；功放，音響的功率線性放大電路；數字電路中用于電平信號轉換；開關電源中，高頻大功率狀態；用于LED燈的恒流驅動電路；汽車、電力、通信、工業控制、家用電器等。MOS管G、S、D區分以及電流流向。MOS管G、S、D表示什么？G：gate 柵極S：source 源極D：drain 漏極。MOS管是金屬(Metal)—氧化物(Oxid)—半導體(Semiconductor)場效應晶體管。市面上常有的一般為N溝道和P溝道。N溝道的電源一般接在D，輸出S，P溝道的電源一般接在S，輸出D。

場效應晶體管：截止區：當 UGS 小于開啟電壓 UGSTH時，MOS 不導通。可變電阻區：UDS 很小，I_DID 隨UDS 增大而增大。恒流區：UDS 變化，I_DID 變化很小。擊穿區：UDS 達到一定值時，MOS 被擊穿，I_DID 突然增大，如果沒有限流電阻，將被燒壞。過損耗區：功率較大，需要加強散熱，注意較大功率。場效應管主要參數。場效應管的參數很多，包括直流參數、交流參數和極限參數，但普通運用時主要關注以下一些重點參數：飽和漏源電流IDSS，夾斷電壓Up，（結型管和耗盡型絕緣柵管，或開啟電壓UT（加強型絕緣柵管）、跨導gm、漏源擊穿電壓BUDS、較大耗散功率PDSM和較大漏源電流IDSM。隨著半導體技術的不斷發展，場效應管性能不斷提升，有望在更多領域發揮重要作用。

mos管，mos管是金屬（metal）-氧化物（oxide）-半導體（semiconductor）場效應晶體管，或者稱是金屬-絕緣體（insulator）-半導體，MOS管的source和drain是可以對調的，他們都是在P型backgate中形成的N型區。在多數情況下，這個兩個區是一樣的，即使兩端對調也不會影響器件的性能，這樣的器件被認為是對稱的。MOS電容的特性能被用來形成MOS管，Gate，電介質和backgate保持原樣。在GATE的兩邊是兩個額外的選擇性摻雜的區域。其中一個稱為source，另一個稱為drain，假設source 和backgate都接地，drain接正電壓，只要GATE對BACKGATE的電壓仍舊小于閾值電壓，就不會形成channel。場效應管有三種類型，分別是MOSFET、JFET和IGBT，它們各自具有不同的特性和應用領域。無錫功耗低場效應管

場效應管具有輸入阻抗高、輸出阻抗低、線性度好、溫度穩定性好等優點，使其在各種電路中表現出色。肇慶強抗輻場效應管

溝道增強型MOSFET場效應管的工作原理：vGS對iD及溝道的控制作用① vGS=0 的情況，增強型MOS管的漏極d和源極s之間有兩個背靠背的PN結。當柵——源電壓vGS=0時，即使加上漏——源電壓vDS，而且不論vDS的極性如何，總有一個PN結處于反偏狀態，漏——源極間沒有導電溝道，所以這時漏極電流iD≈0。② vGS>0 的情況，若vGS＞0，則柵極和襯底之間的SiO2絕緣層中便產生一個電場。電場方向垂直于半導體表面的由柵極指向襯底的電場。這個電場能排斥空穴而吸引電子。排斥空穴：使柵極附近的P型襯底中的空穴被排斥，剩下不能移動的受主離子(負離子)，形成耗盡層。吸引電子：將 P型襯底中的電子（少子）被吸引到襯底表面。肇慶強抗輻場效應管