Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討3D打印和增材制造原理。湖北MEMS增材制造無掩膜光刻

Nanoscribe基于雙光子聚合技術的3D打印技術為構建具有自由形狀和復雜特征的零件提供了極大的自由度，可直接根據CAD模型制造成品。若以傳統方式來制造這些設計復雜的零件，則顯得非常不切實際，甚至根本不可能完成。增材制造技術制造的零件往往更輕、更高效且能夠更好地發揮工作性能。然而，這并不是說這種靈活性能夠讓我們隨心所欲地設計任何想要的形狀，至少在成本的約束下，我們也不可能做到這一點。Nanoscribe所具備的納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度比較高江蘇工業級增材制造QX增材制造輪可以通過增加材料的密度和強度來提高承載能力。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。

人們還可以用3D打印創作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe公司專注于微觀3D打印技術，通過該用戶可以得到尺寸微小的高質量產品。全新推出的QuantumX平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。增材制造輪的生產過程中采用了環保材料和循環利用的理念。

增材制造對于中國制造而言非常需要，因為中國企業的制造能力往往很強，但是產品的開發能力嚴重不足，而增材制造可以為我們補足這個短板，它可以先把我們的設計利用很短的流程進行迭代，作出樣機、評價、分析，確定了設計之后再進行生產。增材制造近幾年發展非常快，年增長率幾乎在百分之二十幾到百分之四十幾。其中，FDM尤其迎合了創客的需要和教育的需要，發展非常快。SLA在產品開發中發揮了重要作用。對大型金屬結構件來說，用絲材進行熔化堆積可能是更好的方法，它的能源可以是激光的，也可以是電子束的，也可以是電弧的，就像傳統的電焊一樣。這個技術已經可以做到尺寸大于2米、5米，甚至已經做到8米。我們實驗室已經做到2米，正在做5米、6米的裝備。還可以把許多傳統制造技術結合用于3D打印。用層層堆積的概念，例如鑄造，可以進行一層層薄層鑄造來形成3D打印新的技術。我們這邊有做到，在每一層鑄造中采取鍛打的辦法，來提高它的強度，增加結構材料的致密度，來提高它的性能。我們也做了很多堆焊的實驗，認為是大型結構件高效的制造方法，可以達到每小時5公斤甚至10公斤。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司歡迎你一起探討增材制造技術發展趨勢和應用。江蘇工業級增材制造QX

對比傳統制造，增材制造有什么優勢和特點？湖北MEMS增材制造無掩膜光刻

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的。湖北MEMS增材制造無掩膜光刻