Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級如需了解增材制造的信息，請咨詢咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。湖南雙光子增材制造三維光刻

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點北京進口增材制造系統增材制造技術具有高的堅固性，穩定性.

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。

Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。根據ASTM標準 ,增材制造又稱為3D打印或快速成型。

全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的頭一個用于熔融石英玻璃微納結構3D微納加工的商用高精度增材制造工藝和材料。新型光刻膠GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心內容，也是世界上只有的一款用于熔融石英玻璃微納加工的光刻膠。這種打印材料因其高光透性，出色的熱穩性，機械性能和化學穩定性脫穎而出。這為探索生命科學，微流控，微納光學，材料工程和其他微納技術領域的新應用開辟了更多可能性。TheGlassPrintingExplorerSet拓寬了注重耐高溫特性，化學和機械穩定性以及光透性的高精度3D微納加工應用。雙光子聚合技術（2PP）的高精度結合熔融石英玻璃的出色玻璃性能，推動者生命科學，微流控，微納光學及其他領域新應用的發展和探索。“盡管所需的后期熱處理要求很高，GP-Silica在我們研究制造復雜的微流體系統方面具有巨大的潛力。”瑞士弗里堡大學工程與建筑學院助理教授兼圖像打印系主任NicolasMuller博士總結道。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。增材制造技術正在改變產品的設計和生產方式。2PP增材制造Quantum X

增材制造技術可用于快速原型制造和生產。湖南雙光子增材制造三維光刻

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之，該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統（MEMS）等）。湖南雙光子增材制造三維光刻