傳統上，調節板和冷卻臺是銅焊的。將多個零件釬焊在一起以創建單個組件。增材制造在此提供的優勢在于，可以設計結構一體化的零件，從而減少零件的數量，并替代釬焊。單一的結構對設計迭代也帶來了直觀的好處，我們可以想象，要通過傳統的供應鏈，訂購多個零件可能需要一兩個月才能得到，因為必須通過訂購系統，有人必須加工，有人必須組裝，有人可能需要測試進行質量檢查。然后才進入到供貨物流系統中，而將這些不同的零件組裝在一起后，才可以對其進行后續的一個測試。這使得每一次設計迭代都變得緩慢而昂貴。但是，通過3D打印-增材制造技術，就可以省去所有這些步驟。尤其是對于實現結構一體化的組件來說，可以快速迭代新的設計概念，節約繁雜的重新訂購不同零件的成本與時間，這將使設計師更快地獲得理想的功能優勢。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討增材制造技術的運用。山東實驗室增材制造無掩膜激光直寫

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用江蘇微納光刻增材制造微納加工系統如需了解增材制造技術發展趨勢和應用，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。

增材制造技術是指基于離散-堆積原理，由零件三維數據驅動直接制造零件的科學技術體系。基于不同的分類原則和理解方式，增材制造技術還有快速原型、快速成形、快速制造、3D打印等多種稱謂，其內涵仍在不斷深化，外延也不斷擴展，這里所說的“增材制造”與“快速成形”、“快速制造”意義相同。工業化的LSF-V大型激光立體成形裝備所謂數字化增材制造技術就是一種三維實體快速自由成形制造新技術，它綜合了計算機的圖形處理、數字化信息和控制、激光技術、機電技術和材料技術等多項高技術的優勢，學者們對其有多種描述。西北工業大學凝固技術國家重點實驗室的黃衛東教授稱這種新技術為“數字化增材制造”，中國機械工程學會宋天虎秘書長稱其為“增量化制造”，其實它就是不久前引起社會***關注的“三維打印”技術的一種。西方媒體把這種實體自由成形制造技術譽為將帶來“第三次工業**”的新技術。

3D打印高性能增材制造技術擺脫了模具制造這一明顯延長研發時間的關鍵技術環節，兼顧高精度、高性能、高柔性，可以快速制造結構十分復雜的零件，為先進科研事業速研發提供了有力的技術手段。在微光學領域，Nanoscribe表示，其3D打印解決方案“破壞和打破以前復雜的工作流程，克服了長期的設計限制，并實現了先進的微光驅動的前所未有的應用。換句話說，PhotonicProfessionalGT系列與您的平均3D打印機不同，因此可用于創建在其他機器上無法生產的功能性光學產品。該系列與正確的材料和工藝相結合，據稱允許用戶“直接制造具有比標準制造方法，高形狀精度和光學平滑表面幾何約束的聚合物微光學部件”。增材制造輪能夠針對不同的應用場景進行優化設計。

隨著各行各業的發展及科技的進步，人們可以用3D打印創建在人體內傳導藥物的載體，可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe公司專注于微觀3D打印技術，而全新推出的QuantumX平臺新型高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的優異性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。如需了解增材制造技術的應用場景請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。山東雙光子聚合增材制造系統

增材制造技術正在改變產品的設計和生產方式。山東實驗室增材制造無掩膜激光直寫

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。山東實驗室增材制造無掩膜激光直寫