隨著科技的不斷進步，雙光子聚合激光直寫技術正以驚人的速度改變著我們的生活。這項創新技術利用雙光子效應，通過高能量激光束直接寫入材料表面，實現了高精度、高效率的微納加工。它不僅在微電子、光電子、生物醫學等領域展現出巨大潛力，還為我們帶來了無限的想象空間。雙光子聚合激光直寫技術的突破在于其能夠實現超高分辨率的微納加工。傳統的光刻技術受限于光的波長，無法達到納米級別的加工精度。而雙光子聚合激光直寫技術則能夠利用兩個光子的能量共同作用，將加工精度提升到亞微米甚至納米級別。這使得我們能夠制造出更小、更精細的微型器件，為微電子行業帶來了巨大的發展機遇。除了在微電子領域的應用，雙光子聚合激光直寫技術還在光電子領域展現出了巨大的潛力。通過控制激光束的強度和聚焦點的位置，我們可以在光學材料中實現三維結構的直接寫入。這為光學器件的制造提供了全新的思路，不僅能夠提高器件的性能，還能夠降低成本。這對于光通信、光存儲等領域的發展具有重要意義。該無掩膜光刻系統適用于2D和2.5D拓撲結構快速制造，例如微光學衍射以及折射元件等.山西3D打印雙光子聚合激光直寫

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。上海2PP雙光子聚合技術Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您揭曉飛秒激光雙光子聚合微納加工系統及方法。

作為微納加工和3D打印領域的帶領者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰，結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息，產品應用數據庫，公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示：“中文網站的發布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業方面的應用?！?/p>

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。雙光子聚合技術是近年發展起來的在利用光的原理上不同于普通光聚合和光交聯的一種新型的光聚合技術。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化。內蒙古超高精度雙光子聚合3D光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討國內在雙光子聚合技術領域的未來發展。山西3D打印雙光子聚合激光直寫

作為納米、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關鍵技術，雙光子聚合技術(2PP)能在高速打印的同時確保高精度制作。結合極高設計自由度的特點，2PP高精度增材制造推動著未來技術在例如生命科學、微流體、材料工程、微機械 和MEMS等科研和工業領域應用的發展。Nanoscribe作為2PP微納加工市場人物，將繼續突破3D微納加工的極限?；谕黄菩噪p光子對準技術(A2PL@)的Quantum X平臺系列，可以實現在光纖前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光學元件，助力光子封裝領域實現在所有空間方向的納米級對準和定位。此外，該系統具備的雙光子灰度光刻技術(2GL @)是制造具備比較高光學質量的2.5D折射和衍射微光學器件的好的選擇，山西3D打印雙光子聚合激光直寫