德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D 打印機，用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產品線，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統 (MEMS) 應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構，在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業中的快速原型制作和批量生產。”

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作為微納加工和3D打印領域的帶領者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰，結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息，產品應用數據庫，公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示：“中文網站的發布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業方面的應用

四川2GLNanoscribe3D微納加工這項技術具有快速、精確和可定制的特點。

雙光子聚合（2PP）是一種可實現比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統Quantum X shape具有下列優異性能：首先，在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打印；其次制作高達 50 毫米的目標結構，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統Quantum X shape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果，同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。Quantum X  shape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以 1 MHz 調制速率動態調整激光功率

Nanoscribe雙光子光刻技術實現在光子芯表面進行打印 。光子芯片上的光學元件的精確對準，例如作為光子封裝的光學互連，是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓撲映射實現的。在nanoPrintX軟件中，您可以將芯片布局和對準標記添加到打印作業中，打印系統會檢測標記并將其與打印作業進行匹配，以確定光子芯片波導的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統能實現微光學元件和光學互連具有比較好的光學性能的同時擁有**小耦合損耗，通過自由空間微光學耦合（FSMOC）實現高效的光耦合，成為光子封裝的強大解決方案。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術開創了一種全新的微流控微納加工方法。

對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術。該技術可以將打印的結構自動對準到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準。 Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統的標配。Nanoscribe的3D打印設備具有高度靈活性和可定制性，能夠滿足不同行業的需求。四川微納米Nanoscribe系統

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Nanoscribe稱，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。  四川科研Nanoscribe生物醫學