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天津微納米增材制造無掩膜光刻

來源: 發布時間:2024-08-21

為了制作由3D工程細胞微環境制成的體外細胞培養物,科學家們利用雙光子聚合技術(2PP)來制造模擬腦血管幾何形狀的仿生3D支架,該仿生幾何結構影響膠質母細胞瘤細胞及其定植機制。在該實驗中,細胞可以在定制3D支架幾何結構的引導下以受控方式生長。只有在強聚焦的激光焦點處才能發生雙光子吸收的光聚合反應可實現在亞微米范圍內打印極其精細的3D特征結構。此外,這種增材制造技術可在微米級別實現高度三維設計自由度,并以比較高精度模擬三維細胞微環境。 走進Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司,學習增材制造工藝原理。天津微納米增材制造無掩膜光刻

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   作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微納加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?;?PP微納加工技術方面的專業知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業創新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。



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隨著各行各業的發展及科技的進步,人們可以用3D打印創建在人體內傳導藥物的載體,可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創作出精美的珠寶首飾和設計,甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術,通過該用戶可以得到尺寸微小的高質量產品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。 

3D打印高性能增材制造技術擺脫了模具制造這一明顯延長研發時間的關鍵技術環節,兼顧高精度、高性能、高柔性,可以快速制造結構十分復雜的零件,為先進科研事業速研發提供了有力的技術手段。在微光學領域,Nanoscribe表示,其3D打印解決方案“破壞和打破以前復雜的工作流程,克服了長期的設計限制,并實現了先進的微光驅動的前所未有的應用。 換句話說,Photonic Professional GT系列與您的平均3D打印機不同,因此可用于創建在其他機器上無法生產的功能性光學產品。該系列與正確的材料和工藝相結合,據稱允許用戶“直接制造具有比標準制造方法,高形狀精度和光學平滑表面幾何約束的聚合物微光學部件”。 根據ASTM標準 ,增材制造又稱為3D打印或快速成型。

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  Nanoscribe設備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分液態光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面,GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區域上生產具有亞微米細節的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡,基板,材料和自動化流程。  增材制造技術可用于快速原型制造和生產。北京Nanoscribe增材制造

增材制造可減少材料浪費和能源消耗。天津微納米增材制造無掩膜光刻

Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造,一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化,以滿足不用客戶群的需求。天津微納米增材制造無掩膜光刻

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