談到增材制造技術（俗稱3D打印技術）估計很多人并不陌生，但是說到增材制造技術的應用，可能大部分人還只停在以下兩個階段：1)原型制造，即通過樹脂、塑料等非金屬材料打印的概念原型與功能原型。其中概念原型用于展示產品設計的整體概念、立體形態和布局安排，功能原型則用于優化產品的設計，促進新產品的開發，如檢查產品的結構設計，模擬裝配、裝配干涉檢驗等。2)間接制造，即通過3D打印技術完成工、模具制造，再采用3D打印工模具進行零件的制造。  增材制造（Additive Manufacturing，AM）技術是采用材料逐漸累加的方法制造實體零件的技術。海南高精度增材制造三維光刻

  QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。浙江2PP增材制造無掩膜激光直寫增材制造技術可用于快速原型制造和生產。

  Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。 

3D打印公司Nanoscribe早期是德國卡爾斯魯厄理工學院的分支機構，自此成為全球市場的高精度，微型3D打印技術和微光解決方案的提供商。德國3D打印公司Nanoscribe正在使用其Photonic Professional GT 3D打印機來制造包括標準折射微光學，自由光學元件，衍射光學元件和多透鏡系統在內的微光學形狀。德國增材制造公司表示，“將 3D打印技術 與用戶友好的軟件和創新材料相結合，導致可重復的精益流程”，使客戶能夠“克服當前的技術障礙”。 Nanoscribe使用其Photonic Professional GT 3D打印機，近期展示了如何使用雙光子聚合工藝生產各種微光學形狀。這些Photonic Professional GT 3D打印機據稱提供具有光學質量表面光潔度的亞微米特征，以及沿著3D打印工作流程的快速制作。增材制造為創新設計提供了更多可能性。

   QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之，該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統（MEMS）等）。

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影響增材制造技術的因素你了解嗎？海南高精度增材制造三維光刻

  QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。

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