Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統。湖北超高速3D打印三維微納米加工系統

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。上海高精度3D打印無掩膜激光直寫超高分辨率微觀3D打印技術讓電子產品越來越小。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。歡迎咨詢

總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。3D打印技術是一種高精度、高分辨率的增材制造技術。

俄亥俄州代頓的美國空軍技術學院的科研人員開發了新一代的基于光纖的傳感器，其部件可實現動態旋轉。他們使用**支撐結構一步打印了智能化的3D微鉸鏈和可活動部件。這種巧妙的設計和3D打印策略使優化的傳感器（例如具有更高靈敏度的Fabry-Pérot傳感器）和新型傳感器（例如光纖上的3D打印轉子）能應用于流量測量。

Fabry-Pérot腔可能是很受歡迎的基于光纖的微型傳感器。傳感器的響應基于在腔體內部分反射表面之間循環的單色光的干涉。腔體光程的**小變化都會導致傳感器輸出的干涉發生變化。靈敏度隨著腔內界面的反射率而增加。腔體中捕獲的光越多，光譜響應就越清晰，即體現在更高的品質因子。 更多關于Nanoscribe微納米3D打印的內容，請致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。山東2GL3D打印Nanoscribe

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工業級3D打印技術正以驚人的速度改變著制造業的面貌。作為一種創新的制造方式，它不僅能夠提高生產效率，降低成本，還能夠實現個性化定制和快速原型制作。本文將為您介紹工業級3D打印的優勢以及其在不同行業的應用。工業級3D打印技術的優勢主要體現在以下幾個方面。首先，它能夠實現復雜結構的制造。相比傳統的制造方式，3D打印可以通過逐層堆積材料的方式，打印出任意形狀的產品，無論是內部結構還是外部形態，都能夠實現精確控制。其次，3D打印可以實現個性化定制。傳統制造方式需要大規模生產，而3D打印可以根據客戶需求，快速制造出符合個性化要求的產品。此外，3D打印還能夠實現快速原型制作，縮短了產品開發周期。湖北超高速3D打印三維微納米加工系統