全新的NanoscribeQuantumX系統適用于工業生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統制作工藝。全球較早雙光子灰度光刻(2GL®)系統將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現了低成本的微納加工。憑借著獨有的產品優勢Nanoscribe新發布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創新獎。無掩膜光刻技術也適用于制造精細的電子元件和結構。湖南無掩膜光刻技術3D打印

QuantumXshape技術特點概要：快速原型制作，高精度，高設計自由度，簡易明了的工程流程；工業驗證的晶圓級批量生產；200個標準結構的通宵產量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。廣東2GL無掩膜光刻三維光刻無掩膜光刻技術采用數字光刻的方式，無需制作實體掩膜版。

來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結合軟光刻技術做后續復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心，共同合作研發了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米，可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內窺鏡可以幫助檢測人體動脈內的斑塊、血栓和膽固醇晶體，因此對于醫學檢測極其重要，可以有助于減少中風和心臟病發作的風險。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之，該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統（MEMS）等）。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備，可實現在25cm2面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統，非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。無掩膜光刻是一種直接將信息轉移到襯底上的技術。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm。歡迎咨詢無掩膜光刻技術具有廣泛的應用前景。上海雙光子聚合無掩膜光刻設備

無掩膜光刻認準納糯三維科技（上海）有限公司。湖南無掩膜光刻技術3D打印

借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機。該設備將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統可適用于科研和工業領域應用湖南無掩膜光刻技術3D打印