Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特別高分辨率的3D無掩模光刻技術，用于快速，特別高精度的微納加工，可以輕松3D微納光學制作?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。增材制造技術具有高的堅固性，穩定性，耐用性。超高速增材制造無掩膜光刻

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK 集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合 (2PP) 增材制造能力的生物科技公司。 Nanoscribe公司 的 2PP 技術能夠在亞細胞尺度上對血管微環境進行生物打印，適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術未來也將助力集團的相關產品線開發，用于制造植入體、微針、微孔膜和組學應用耗材等。 CELLINK集團的前列宏觀結構生物打印技術與 Nanoscribe 公司的微觀結構生物打印技術相結合做到了強強聯手的協作效應，可以實現更逼真的組織結構，例如血管化和細胞支持體等。 2PP 技術將實現CELLINK集團所有三個業務的跨領域應用，并增強集團的耗材產品開發和供應。 “借助 Nanoscribe 先進的 2PP 技術，我們可以實現擴大補充我們的產品組合，為我們的客戶提供更廣的產品。” 北京雙光子聚合增材制造PPGTNanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您了解增材制造工藝的分類。

   QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之，該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統（MEMS）等）。

 QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義 3D打印技術可用于制造復雜的工具和模具。

  Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的特性?？蒲性霾闹圃於嗌馘X

走進Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司學習增材制造技術。超高速增材制造無掩膜光刻

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。

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