Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微納加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。基于2PP微納加工技術方面的專業知識，Nanoscribe為頂端科學研究和工業創新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道雙光子聚合微納加工系統利用飛秒激光雙光子聚合技術可以深入透明材料內部。浙江亞微米雙光子聚合三維微納米加工系統

   雙光子聚合技術(2PP)是一種“納米光學”3D打印方法，類似于光固化快速成型技術，未來學家ChristopherBarnatt認為這種技術未來可能會成為主流3D打印形式。國際上，維也納科技大學的科學家們一致致力于提高感光性樹脂性能和成像技術。而英國帝國理工學院還通過德國的Nanoscribe設備打印出只有100微米長的中國長城模型贈送給我們國家。NanoScribe這樣的雙光子聚合技術潛在的應用范圍和影響力是很特殊的。其應用領域包括：光子學(Photonics):光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(DFBLasers)光子共振環、繞射光學微光子學(MicroOptics):微光學器件、整合型光學微流道技術(MicroFluidics):生醫芯片系統、物質研究開發與分析、三維基礎結構與微流道通路生命科學(LifeSciences):細胞外數組結構、干細胞分離術、細胞成長研究、細胞遷移研究、組織工程納米與微米工藝(Nano-andMicrotechnology):超細分辨率光學掩膜、壁虎與蓮花效應分析湖南高精度雙光子聚合3D光刻雙光子聚合技術可用于3D微納結構的增材制造！

QuantumXshape技術特點概要：快速原型制作，高精度，高設計自由度，簡易明了的工程流程；工業驗證的晶圓級批量生產；200個標準結構的通宵產量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。

作為納米、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關鍵技術，雙光子聚合技術(2PP)能在高速打印的同時確保高精度制作。結合極高設計自由度的特點，2PP高精度增材制造推動著未來技術在例如生命科學、微流體、材料工程、微機械 和MEMS等科研和工業領域應用的發展。Nanoscribe作為2PP微納加工市場人物，將繼續突破3D微納加工的極限。基于突破性雙光子對準技術(A2PL@)的Quantum X平臺系列，可以實現在光纖前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光學元件，助力光子封裝領域實現在所有空間方向的納米級對準和定位。此外，該系統具備的雙光子灰度光刻技術(2GL @)是制造具備比較高光學質量的2.5D折射和衍射微光學器件的好的選擇，Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶你了解雙光子聚合技術及其應用前景。

雙光子聚合是物質在發生雙光子吸收后所引發的光聚合過程。雙光子吸收是指物質的一個分子同時吸收兩個光子的過程，只能在強激光作用下發生，是一種強激光下光與物質相互作用的現象，屬于三階非線性效應的一種。雙光子吸收的發生主要在脈沖激光所產生的特別強激光的焦點處，光路上其他地方的激光強度不足以產生雙光子吸收，而由于所用光波長較長，能量較低，相應的單光子過程不能發生，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點，在三維微加工、高密度光儲存及生物醫療領域有著巨大的應用前景，近年來已成為全球高新技術領域的一大研究熱點雙光子聚合技術是近年發展起來的在利用光的原理上不同于普通光聚合和光交聯的一種新型的光聚合技術。上海亞微米級雙光子聚合三維微納米加工系統

科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術打印微型通道的聚合物母版，并結合軟光刻技術做后續復制工作。浙江亞微米雙光子聚合三維微納米加工系統

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。浙江亞微米雙光子聚合三維微納米加工系統