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重慶微納米Nanoscribe微機械

來源: 發布時間:2024-06-04

   對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重點部分完全對齊,以激發制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰,特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創新以及在醫療設備的應用和光學傳感的發展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統可能已經為在光纖上打印SERS探針的挑戰提供了答案,并為進一步改進和新的創新奠定了基礎。


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   對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,以激發制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰,特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創新以及在醫療設備的應用和光學傳感的發展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統可能已經為在光纖上打印SERS探針的挑戰提供了答案,并為進一步改進和新的創新奠定了基礎。


海南雙光子聚合Nanoscribe通過使用Nanoscribe的3D打印系統,科學家們實現了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波導的微觀結構。

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Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。   

售后支持和服務擁有超過14年的微加工技術經驗,我們的技術支持團隊努力在短的時間內為客戶提供好的支持。在德國總部,中國分公司和美國分公司,以及通過Nanoscribe認證的經銷商提供的銷售服務和技術支持。我們的跨學科和多語言技術支持團隊為客戶提供各方面的支持:裝機、維護和維修現場和線上的培訓課程通過NanoGuide綜合自助服務平臺自助查詢電話、電子郵件和設備自帶遠程支持功能基礎操作技巧之外的高階技術和應用支持延長維修保修合同、升級服務、移機服務Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。

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Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之,該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性(如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(MEMS)等)  Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人等等。江蘇實驗室Nanoscribe三維光刻

使用Nanoscribe技術可以制造微米級別的結構和器件。重慶微納米Nanoscribe微機械

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。  重慶微納米Nanoscribe微機械

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