多年來,Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術、微光學等工業微加工相關項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內的其他行業帶領機構一起開發頻率和功率穩定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發成果——3D打印光源組件,將用于量子技術創新,并可以應用在醫療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發團隊將開展多項實驗,開發工業傳感器和成像系統,這就需要復雜的研發工作,還需要開發可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。
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Nanoscribe設備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分流體光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面,GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區域上生產具有亞微米細節的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡,基板,材料和自動化流程。該系統還具有用戶友好的3D打印工作流程,用于制作單個元素。這些元件可以創造出比較大的形狀精度和表面光滑度,滿足智能手機行業中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結構的要求。
廣東科研NanoscribeQuantum X shape生物醫學應用,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。
Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。
科學家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(2PP) ,發明了GRIN 光學微納制造工藝。這種新的制造技術實現了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學元件。憑借這種全新的制造工藝,科學家們完成了令人印象深刻的展示制作,打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡(15?μm 直徑)。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,使其具有獨特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調節范圍甚至超過0.3。
使用Nanoscribe的3D微加工技術并配合其新型研發的IP-Visio光刻膠,可以打印極其復雜的3D微支架。
Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開,在微流控研究中,通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結合不同制造方法。亞琛工業大學(RWTHUniversityofAachen)和不來梅大學(UniversityofBremen)的研究小組提出將三維結構的芯片結構打印到預制微納通道中。生命科學研究的驅動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架,以推動細胞培養和組織工程學。丹麥技術大學(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就,并強調了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學和光子學研究中,布魯塞爾自由大學的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案
Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統制作的微流控元件可以完全嵌入進預制的二維微流道系統。海南微納光刻Nanoscribe微流道
Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人等。海南進口Nanoscribe無掩膜光刻
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造,一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。
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