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浙江Nanoscribe微納機器人

來源: 發布時間:2024-06-04

Nanoscribe設備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分液態光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面,GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區域上生產具有亞微米細節的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡,基板,材料和自動化流程。該系統還具有用戶友好的3D打印工作流程,用于制作單個元素。這些元件可以創造出比較大的形狀精度和表面光滑度,滿足智能手機行業中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結構的要求。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解增材制造的工藝過程前處理。 微米級分辨率,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。浙江Nanoscribe微納機器人

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Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統具備了A2PL®對準雙光子光刻技術,可實現在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3D printing by 2GL®在實現優異的打印質量同時兼顧打印速度,適用于微光學制造和光子封裝領域。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現實時動態調制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調整,以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,不產生形狀失真的要求下,您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。廣東進口Nanoscribe三維微納米加工系統影響增材制造技術的因素你了解嗎?歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。

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由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡 

售后支持和服務擁有超過14年的微加工技術經驗,我們的技術支持團隊努力在短的時間內為客戶提供好的支持。在德國總部,中國分公司和美國分公司,以及通過Nanoscribe認證的經銷商提供的銷售服務和技術支持。我們的跨學科和多語言技術支持團隊為客戶提供各方面的支持:裝機、維護和維修現場和線上的培訓課程通過NanoGuide綜合自助服務平臺自助查詢電話、電子郵件和設備自帶遠程支持功能基礎操作技巧之外的高階技術和應用支持延長維修保修合同、升級服務、移機服務歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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Nanoscribe雙光子光刻技術實現在光子芯表面進行打印 。光子芯片上的光學元件的精確對準,例如作為光子封裝的光學互連,是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓撲映射實現的。在nanoPrintX軟件中,您可以將芯片布局和對準標記添加到打印作業中,打印系統會檢測標記并將其與打印作業進行匹配,以確定光子芯片波導的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統能實現微光學元件和光學互連具有比較好的光學性能的同時擁有**小耦合損耗,通過自由空間微光學耦合(FSMOC)實現高效的光耦合,成為光子封裝的強大解決方案。專注于微納米3D打印設備的額研發和應用。浙江2GLNanoscribeQX

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德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發商,也是 BICO集團(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D 打印機,用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱,新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產品線,其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統 (MEMS) 應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構,在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機器為科學和工業用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業中的快速原型制作和批量生產。”


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