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北京超高速NanoscribeQX

來源: 發布時間:2024-06-02

Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX,一種基于場景圖概念的軟件工具,可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織,用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統的共焦單元或光纖照明單元,可以識別這些特定的基板標記,并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統的標配。更多有關增材制造的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。北京超高速NanoscribeQX

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作為微納加工和3D打印領域的帶領者,Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰,結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息,產品應用數據庫,公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示:“中文網站的發布是件值得令人高興的事情,我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙,更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業方面的應用。” 浙江TPPNanoscribe更多有關3D打印的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領域的先驅和市場領導我們是您在微加工系統、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨子公司,是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司,并于2021年6月成為BICO集團的一部分。憑借成熟穩定的系統、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案,我們的3000多名系統用戶正在致力于研究改變未來的應用。Nanoscribe的用戶群體中,有科學研究和工業的創新者,包括生命科學、微光學、光子學、材料工程、微流體、微力學和MEMS。他們優越的創新現已發表在1300多份同行評議期刊上。

基于雙光子聚合(2PP)原理的雙光子灰度光刻(2GL®)是Nanoscribe技術,具備體素動態控制能力。在掃描激光焦點橫跨掃描平面時,調制曝光劑量會改變光敏樹脂內的體素大小,從而實現對聚合體素尺寸的精細可控變化。這是激光功率調制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺運動同步的結果。為此,將灰度圖像轉換為曝光級別的空間變化,從而在一個平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優勢? 雙光子灰度光刻 技術(2GL®)使用激光束調制和高速振鏡的高頻同步進行單體素調節,從而實現光學質量表面結構。通過高精度定位單元和自校準程序,可在拼接相鄰打印區域時以出色準確性進行打印,以制造大型結構。2GL動態調整打印場邊界處的激光劑量,以補償光敏聚合物的化學誘導收縮和定位缺陷。通過這種功能組合,可以在幾平方厘米的區域內打印出真正的無縫結構,消除所有拼接痕跡。Nanoscribe致力于不斷推動增材制造技術的發展,為客戶提供高質量、高效率的解決方案。

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Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。 更多有關微納3D打印產品和技術咨詢,歡迎聯系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。浙江進口Nanoscribe多少錢

使用Nanoscribe的3D微加工技術并配合其新型研發的IP-Visio光刻膠,可以打印極其復雜的3D微支架。北京超高速NanoscribeQX

雙光子聚合(2PP)是一種可實現比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統Quantum X shape具有下列優異性能:首先,在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制,適用于納米和微米級打印;其次制作高達 50 毫米的目標結構,適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統Quantum X shape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果,同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。Quantum X  shape具有先進的激光焦點軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,并以 1 MHz 調制速率動態調整激光功率


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