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江蘇Nanoscribe3D微納加工

來源: 發(fā)布時間:2024-04-28

為了進一步提升技術先進性,科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面,利用SCRIBE新技術的情況下,高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結(jié)構(gòu)的光學性能的調(diào)節(jié)度。另一方面,低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進一步的可能。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。Nanoscribe是一家**的增材制造技術公司,專注于高精度的微納米級3D打印技術。江蘇Nanoscribe3D微納加工

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   Nanoscribe設備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分流體光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面,GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡,基板,材料和自動化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求德國德國Nanoscribe三維光刻Nanoscribe的3D打印設備具有高度靈活性和可定制性,能夠滿足不同行業(yè)的需求。

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Nanoscribe雙光子光刻技術實現(xiàn)在光子芯表面進行打印 。光子芯片上的光學元件的精確對準,例如作為光子封裝的光學互連,是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓撲映射實現(xiàn)的。在nanoPrintX軟件中,您可以將芯片布局和對準標記添加到打印作業(yè)中,打印系統(tǒng)會檢測標記并將其與打印作業(yè)進行匹配,以確定光子芯片波導的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實現(xiàn)微光學元件和光學互連具有比較好的光學性能的同時擁有**小耦合損耗,通過自由空間微光學耦合(FSMOC)實現(xiàn)高效的光耦合,成為光子封裝的強大解決方案。

3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現(xiàn)具有特定光子,機械,生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。 想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別,請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。

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光學元件如何對準并打印到光子芯片上?打印對象的 3D 對準技術是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準光子芯片上的光學元件,智能軟件算法會自動識別預定義的標記和拓撲特征,以確定芯片上波導的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標系設置到波導的出口,使其光軸和方向完美對準。 根據(jù)該坐標系打印的光學元件可確保好的光學質(zhì)量并比較大限度地減少耦合損耗。 該項技術可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實現(xiàn)高效的光耦合 。 詳情咨詢納糯三維科技(上海)有限公司高效能能源器件,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。湖南雙光子Nanoscribe

增材制造技術具有高的堅固性,穩(wěn)定性,耐用性。江蘇Nanoscribe3D微納加工

Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。 江蘇Nanoscribe3D微納加工

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