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湖北雙光子灰度光刻微納光刻

來源: 發(fā)布時間:2024-04-21

Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您詳細講解灰度光刻技術(shù)。湖北雙光子灰度光刻微納光刻

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雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件(DOEs),可以直接作為衍射光學(xué)元件(DOEs),可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。.結(jié)合用戶友好的工作流程和自動匹配校準程序,只需幾個步驟就能實現(xiàn)完:美的具有亞微米形狀精度的結(jié)構(gòu)打印,適用于廣泛的應(yīng)用場景和公共平臺用戶的理想選擇浙江進口灰度光刻微納加工系統(tǒng)雙光子灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合。

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這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品,名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板,這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效,而且精度非常高,能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,極大地節(jié)省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節(jié)省時間和精力,讓您專注于更重要的事情。立即購買,體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧!

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復(fù)制工作,并通過納米壓印技術(shù)進行復(fù)制?;叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)(如下圖4所示,八邊金字塔結(jié)構(gòu))。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)實現(xiàn)對光刻膠表面深度的精確控制,從而制備出更加復(fù)雜和精細的微納結(jié)構(gòu)。

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這種設(shè)計策略不僅可用于改進現(xiàn)有的傳感器,該項目還旨在展示具有動態(tài)移動部件的新型傳感器概念的可行性。在第二種設(shè)計中,研究人員在一根光纖的端面3D打印了一個微型轉(zhuǎn)子。從轉(zhuǎn)子上反射出的光脈沖可以被讀取,因此該傳感器可以被用于分析流速。

FabryPérot傳感器進行溫度和折射率感應(yīng)的測試裝置圖。圖片:資料來源見本文下方。通過動態(tài)可旋轉(zhuǎn)的3D微納加工概念,研究人員展示了智能設(shè)計如何改進現(xiàn)有的傳感器,并為整個新的微型化傳感器概念鋪平道路的能力。 灰度光刻技術(shù)可以應(yīng)用于微電子、光電子、生物醫(yī)學(xué)等多個領(lǐng)域。廣東超高速灰度光刻3D打印

該技術(shù)還可以與雙光子聚合技術(shù)結(jié)合,實現(xiàn)高速打印高設(shè)計自由度和超高精度的特點,進一步擴展了其應(yīng)用范圍。湖北雙光子灰度光刻微納光刻

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。湖北雙光子灰度光刻微納光刻

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