Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創造工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。歡迎咨詢灰度光刻技術可實現掩膜版的自適應優化。北京工業級灰度光刻三維微納米加工系統

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）。Photonic Professional GT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。另外，還可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司德國高精度灰度光刻3D光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術。

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。歡迎咨詢

超高速灰度光刻技術是一項帶領科技發展的重大突破，為我們帶來了無限可能。這項技術的出現，將徹底改變我們對光刻的認知，為各行各業帶來了巨大的創新機遇。超高速灰度光刻技術主要是利用高能激光束對材料進行精確的刻蝕，從而實現微米級甚至納米級的精細加工。相比傳統的光刻技術，超高速灰度光刻技術具有更高的加工速度和更精確的刻蝕效果。這意味著我們可以在更短的時間內完成更復雜的加工任務，提高了生產效率。超高速灰度光刻技術在電子、光電子、生物醫藥等領域具有廣泛的應用前景。在電子領域，它可以用于制造更小、更快的芯片和電路板，推動電子產品的迭代升級。在光電子領域，它可以用于制造高精度的光學元件，提高光學設備的性能。在生物醫藥領域，它可以用于制造微型生物芯片和生物傳感器，實現更精確的醫學診斷。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的運用。

Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?；?PP微納加工技術方面的專業知識，Nanoscribe為頂端科學研究和工業創新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術。江蘇超高速灰度光刻

了解更多關于灰度光刻技術各種應用，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。北京工業級灰度光刻三維微納米加工系統

  雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。北京工業級灰度光刻三維微納米加工系統