Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術的用途和特點。北京高分辨率灰度光刻設備

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作江蘇高分辨率灰度光刻三維光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工。

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。歡迎咨詢

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統QuantumX，并榮獲創新獎。該系統是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。成本低：無掩膜光刻技術無需制作昂貴的掩膜版，因此可以降低光刻成本。

超高速灰度光刻技術是一項帶領科技發展的重大突破，為我們帶來了無限可能。這項技術的出現，將徹底改變我們對光刻的認知，為各行各業帶來了巨大的創新機遇。超高速灰度光刻技術主要是利用高能激光束對材料進行精確的刻蝕，從而實現微米級甚至納米級的精細加工。相比傳統的光刻技術，超高速灰度光刻技術具有更高的加工速度和更精確的刻蝕效果。這意味著我們可以在更短的時間內完成更復雜的加工任務，提高了生產效率。超高速灰度光刻技術在電子、光電子、生物醫藥等領域具有廣泛的應用前景。在電子領域，它可以用于制造更小、更快的芯片和電路板，推動電子產品的迭代升級。在光電子領域，它可以用于制造高精度的光學元件，提高光學設備的性能。在生物醫藥領域，它可以用于制造微型生物芯片和生物傳感器，實現更精確的醫學診斷。，灰度光刻可以***縮短制造時間，提高生產效率。湖北2PP灰度光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統。北京高分辨率灰度光刻設備

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）。Photonic Professional GT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。另外，還可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司北京高分辨率灰度光刻設備