Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統。廣東Nanoscribe雙光子聚合微納加工系統

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介紹了高精度3D打印，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性

山西微納米雙光子聚合微納加工系統Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起揭秘雙光子聚合的加工原理。

雙光子聚合技術的應用前景：1. 快速3D打印：雙光子聚合技術可以用于快速3D打印。通過這種技術，可以實現高精度、高分辨率的3D打印，從而制造出更加精細、復雜的結構。這使得3D打印技術可以應用于更多領域，包括航空航天、醫療等高精度制造領域。2. 光子晶體形成：雙光子聚合技術可以用于光子晶體的制備。光子晶體是一種具有周期性折射率變化的介質，可以控制光的傳播路徑。利用雙光子聚合技術，可以制造出具有復雜結構和高質量的光子晶體，為光學器件和光子芯片的制備提供新的途徑。3. 高精度光子器件制造：雙光子聚合技術可以用于高精度光子器件的制造。例如，利用這種技術可以制造出高精度的光學鏡片、光纖等光子器件。這些器件在通訊、能源等領域具有廣泛的應用前景。4. 生物醫學領域應用：雙光子聚合技術還可以應用于生物醫學領域。例如，在生物組織工程中，可以利用這種技術制造出具有復雜結構和高度精確的生物材料。這些材料可以用于藥物輸送、組織修復等方面，為生物醫學研究提供新的工具和思路。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果，同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。雙光子聚合到底是什么技術？有什么特點？運用在哪些領域？

事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的，其先驅者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作，這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達到了120nm，超越了衍射極限，同時還沒有使用諸如近場加工之類的不太通用的解決方案，而是單純的利用了材料的性質Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討國內在雙光子聚合技術的發展趨勢。北京高精度雙光子聚合三維微納米加工系統

NanoScribe的雙光子聚合技術在光子學領域運用特別廣。廣東Nanoscribe雙光子聚合微納加工系統

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。廣東Nanoscribe雙光子聚合微納加工系統