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來源: 發布時間:2023-10-17

   Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的子公司,開發并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,公司創始人開發出一種技術,對智能手機、手持設備和醫療技術領域至關重要的3D打印產品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,他們已經為全球的大學和新興行業提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學,甚至利用他們的技術來開發創新的設備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。灰度光刻技術可用于制造復雜掩膜版。北京高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

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微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,不光是微透鏡陣列結構(如下圖5所示),該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,對于雙光子聚合的微結構,我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作,并通過納米壓印技術進行復制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透,而某些區域光刻膠部分曝光,北京2PP灰度光刻激光直寫更多灰度光刻技術詳情,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統,該系統是first基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的精密加工微納米打印系統,可應用于折射和衍射微光學。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進軍現代微加工工業領域。具有全自動化系統的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業需求。下面講講在衍射微光學中的應用:多級衍射光學元件雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。

  雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產母版工具。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統的應用。

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Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項**技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻系統。浙江高精度灰度光刻三維微納米加工系統

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的運用。北京高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業生產上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統QuantumX,并榮獲創新獎。該系統是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術(2GL?)的精密加工微納米打印系統,可應用于折射和衍射微光學。北京高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

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