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江蘇德國Nanoscribe

來源: 發布時間:2023-09-15

Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。微納光學器件制造,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。江蘇德國Nanoscribe

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拉曼光譜是針對于有機組織和生物組織的一種強大的分析技術,可以根據樣品的個別光譜指紋對其進行定性,如細菌。拉曼散射的固有弱點可以通過金屬化的微納結構表面得到加強,從而創造出與樣品相互作用的信號熱點。在他們的研究中,科學家們使用雙光子聚合技術(2PP)在光纖的表面3D打印了這些微納結構,然后添加上一層薄薄的鍍金涂層。在SERS測量中,激光被耦合到光纖中并激發光纖探針的微納結構表面的信號熱點。在與分析物的相互作用中,SERS信號就可產生并被光纖傳感器收集。重慶進口Nanoscribe微納加工系統快速原型制作,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。

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為了探索待測物微納米表面形貌,探針掃描成像技術一直是理論研究和實驗項目。然而,由于掃描探針受限于傳統加工工藝,在組成材料和幾何構造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展,這也限制了基于力傳感反饋的測量性能。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統,雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印有效的技術,其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,并可達到光學質量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。

雙光子聚合(2PP)是一種可實現比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統Quantum X shape具有下列優異性能:首先,在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制,適用于納米和微米級打印;其次制作高達 50 毫米的目標結構,適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統Quantum X shape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果,同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。Quantum X  shape具有先進的激光焦點軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,并以 1 MHz 調制速率動態調整激光功率更多有關增材制造的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導,可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業,并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如,可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造通過使用Nanoscribe的3D打印系統,科學家們實現了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波導的微觀結構。海南德國Nanoscribe微納光刻

更多有關3D打印的咨詢,歡迎致電納糯三維。江蘇德國Nanoscribe

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。江蘇德國Nanoscribe

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