Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。雙光子聚合三維微制造系統是一種用于化學領域的工藝試驗儀器。廣東Nanoscribe雙光子聚合微納光刻

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。北京納米雙光子聚合技術3D打印Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能，可以輕松實現球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度。

為了探索待測物微納米表面形貌，探針掃描成像技術一直是理論研究和實驗項目。然而，由于掃描探針受限于傳統加工工藝，在組成材料和幾何構造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統，雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。**們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術，實現微流道母版制造和密閉通道系統內部的芯片內直接打印。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介紹了高精度3D打印，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討國內在雙光子聚合技術領域的進展。天津Nanoscribe雙光子聚合3D光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起揭秘什么是雙光子聚合技術。廣東Nanoscribe雙光子聚合微納光刻

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。廣東Nanoscribe雙光子聚合微納光刻

納糯三維科技（上海）有限公司成立于2017-11-08，是一家專注于PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統，雙光子微納光刻系統的****，公司位于上海市徐匯區桂平路391號3號樓11層1106A室。公司經常與行業內技術**交流學習，研發出更好的產品給用戶使用。公司業務不斷豐富，主要經營的業務包括：PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統，雙光子微納光刻系統等多系列產品和服務。可以根據客戶需求開發出多種不同功能的產品，深受客戶的好評。Nanoscribe嚴格按照行業標準進行生產研發，產品在按照行業標準測試完成后，通過質檢部門檢測后推出。我們通過全新的管理模式和周到的服務，用心服務于客戶。Nanoscribe秉承著誠信服務、產品求新的經營原則，對于員工素質有嚴格的把控和要求，為PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統，雙光子微納光刻系統行業用戶提供完善的售前和售后服務。