作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。如果了解雙光子灰度光刻技術，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。廣東高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型。基于雙光子聚合技術，該激光直寫系統不只是快速成型制作的特別好的機型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規模化生產。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格，從而實現亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。黑龍江Nanoscribe灰度光刻微納光刻更多灰度光刻技術，歡迎您致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。

Nanoscribe成立于2007年，憑借著爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持，經過十幾年的不斷研究和成長成為了現在世界公認的微納米加工技術和3D打印市場的帶領者，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。公司主要產品有基于雙光子聚合技術（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項國際專項的雙光子微納3D打印系統PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺工業級雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設備QuantumX受到普遍關注并被眾多高學府和高科技單位所采用，例如哈佛大學，牛津大學等出名的院校，華為公司等。可應用于微納機器人，再生醫學工程，微納光學，力學超材料等不同領域。雙光子灰度光刻（2GL ?）系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。

近年來，利用雙光子聚合對聚合物類傳統光刻膠的3D飛秒激光打印技術已日臻成熟，其高精度、高度可設計性和維度可控性已經在平行技術中排名在前。與此同時，如何更有效地將微納結構功能化，也逐漸成為各種微納加工技術的研究重點。在現階段，對于3D飛秒激光打印技術而言，具體來說就是利用其加工的高度可設計性來實現微納結構的功能化和芯片化，并使這些結構能夠更好地集成器件，從而達到理想的應用目的。微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件，具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結構的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上，會產生場曲。在商業生產中，為了消除場曲這種光學像差，只能在后續光路中引入場鏡組來進行校正，從而增加了器件復雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您了解Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統。浙江2PP灰度光刻三維微納米加工系統

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的運用。廣東高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

    灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印與灰度光刻有點類似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制。 廣東高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

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