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天津2GL無掩膜光刻三維微納米加工系統

來源: 發布時間:2022-10-20

作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微細加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。“我們為我們擁有特別先進的2PP技術而感到自豪,憑借我們的技術支持,我們的客戶實現了一個又一個突破性創新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司,與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯合創始人兼首席執行官MartinHermatschweiler表示。基于2PP微納加工技術方面的專業知識,Nanoscribe為前列科學研究和工業創新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道。Photonic Professional GT在微納米3D打印,以及無掩模光刻領域樹立了行業內新的標竿。天津2GL無掩膜光刻三維微納米加工系統

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Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調節范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,成像中的熒光強度和折射率高度相關,同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。天津德國無掩膜光刻微納光刻無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術。

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Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續執行一系列打印作業。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。無掩膜光刻系統未來發展前景如何,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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多年來,Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術、微光學等工業微加工相關項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內的其他行業帶領機構一起開發頻率和功率穩定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發成果——3D打印光源組件,將用于量子技術創新,并可以應用在醫療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發團隊將開展多項實驗,開發工業傳感器和成像系統,這就需要復雜的研發工作,還需要開發可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解用Nanoscribe無掩模光刻系統所制作的產品。天津德國無掩膜光刻微納光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統未來的發展趨勢。天津2GL無掩膜光刻三維微納米加工系統

“互聯網+”、大數據、020、萬物互聯網、P2P、分享經濟等熱門詞匯的出現,各個行業制定相應的措施來順應時代的經濟發展,以爭取更大的發展市場。而互聯網的出現也為儀器儀表行業參與國際競爭提供了機會,有利于貿易企業實現技術創新升級。由于在重大工程、工業裝備和質量保證、基礎科研中,儀器儀表都是必不可少的基礎技術和裝備重點,除傳統領域的需求外,新興的智能制造、離散自動化、生命科學、新能源、海洋工程、軌道交通等領域也會產生巨大需求。中國的新型工業化進程,信息化和工業化融合的進一步加深,帶動各個工業領域對于PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統等產品的需求。在國民經濟運行中,作為Nanoscribe在中國全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進行三維打印科技領域內的技術開發,技術轉讓,技術咨詢,技術服務,三維打印設備,光電機一體化設備和相關零配件的批發,進出口,傭金代理,并提供相關配套服務,貿易信息咨詢,企業管理咨詢。等設備是提高勞動生產率的倍增器,對國民經濟有著巨大的作用和影響力。美國商業部地區技術和標準研究院(NIST)提出的報告稱:美國90年代儀器儀表工業產值只占工業總產值的4%,但它對國民經濟(GNP)的影響面卻達到66%。天津2GL無掩膜光刻三維微納米加工系統

納糯三維科技(上海)有限公司在同行業領域中,一直處在一個不斷銳意進取,不斷制造創新的市場高度,多年以來致力于發展富有創新價值理念的產品標準,在上海市等地區的儀器儀表中始終保持良好的商業口碑,成績讓我們喜悅,但不會讓我們止步,殘酷的市場磨煉了我們堅強不屈的意志,和諧溫馨的工作環境,富有營養的公司土壤滋養著我們不斷開拓創新,勇于進取的無限潛力,納糯三維科技供應攜手大家一起走向共同輝煌的未來,回首過去,我們不會因為取得了一點點成績而沾沾自喜,相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍,我們更要明確自己的不足,做好迎接新挑戰的準備,要不畏困難,激流勇進,以一個更嶄新的精神面貌迎接大家,共同走向輝煌回來!

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