Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如，可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。什么是Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統？請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。德國雙光子聚合無掩膜光刻激光直寫

為了進一步提升技術先進性，科研人員又在新材料研發的過程中發現了巨大的潛力。一方面，利用SCRIBE新技術的情況下，高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結構的光學性能的調節度。另一方面，低自發熒光的可打印材料非常適用于生物成像領域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發熒光的IP-Visio已經為接下來的研究提供了進一步的可能。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強度和折射率高度相關，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。江蘇雙光子聚合無掩膜光刻無掩光刻想要了解無掩模光刻系統可以咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機。該設備將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統可適用于科研和工業領域應用。我們的客戶成功將微納光學結構直接打印到光子組件上從而實現從邊緣到表面的全方面耦合。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如，可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區域內可產生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟，以及本質上為準連續的形貌，可以在一個步驟中完成打印，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。了解更多無掩膜光刻的技術和產品信息，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數的特性，這些特性對于3D微納加工創新微光學元件設計尤為重要，尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統的情況下。由于在紅外區域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優先，同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現具有高精度形狀精度的創新微光學設計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用，例如光電應用中，他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外，這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統，內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子無掩模光刻技術的運用。江蘇工業級無掩膜光刻3D光刻

Photonic Professional GT在微納米3D打印，以及無掩模光刻領域樹立了行業內新的標竿。德國雙光子聚合無掩膜光刻激光直寫

事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的，其先驅者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作，這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達到了120nm，超越了衍射極限，同時還沒有使用諸如近場加工之類的不太通用的解決方案，而是單純的利用了材料的性質。德國雙光子聚合無掩膜光刻激光直寫