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高新區IGBT設計

來源: 發布時間:2025-06-14

80年代初期,用于功率MOSFET制造技術的DMOS(雙擴散形成的金屬-氧化物-半導體)工藝被采用到IGBT中來。[2]在那個時候,硅芯片的結構是一種較厚的NPT(非穿通)型設計。后來,通過采用PT(穿通)型結構的方法得到了在參數折衷方面的一個***改進,這是隨著硅片上外延的技術進步,以及采用對應給定阻斷電壓所設計的n+緩沖層而進展的[3]。幾年當中,這種在采用PT設計的外延片上制備的DMOS平面柵結構,其設計規則從5微米先進到3微米。90年代中期,溝槽柵結構又返回到一種新概念的IGBT,它是采用從大規模集成(LSI)工藝借鑒來的硅干法刻蝕技術實現的新刻蝕工藝,但仍然是穿通(PT)型芯片結構。[4]在這種溝槽結構中,實現了在通態電壓和關斷時間之間折衷的更重要的改進。銀耀芯城半導體高科技二極管模塊品牌,品牌影響力強?高新區IGBT設計

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IGBT,即絕緣柵雙極晶體管,是一種在功率半導體元器件晶體管領域中占據重要地位的器件。它融合了MOSFET的高輸入阻抗與BIPOLAR的低飽和電壓特性,既擁有雙極性載流子(電子與空穴)的優越性,又展現了低飽和電壓和快速開關的特性。盡管如此,IGBT的開關速度仍不及功率MOSFET,這是其相較于后者稍顯遜色的地方。MOSFET,即金屬-氧化物-半導體場效應晶體管,其結構特點為三層:Metal(金屬)、Oxide(半導體氧化物)和Semiconductor(半導體)。而BIPOLAR晶體管,則是指采用雙極性元件,通過p型和n型半導體構成n-p-n及p-n-p結構,實現電流工作的晶體管。IGBT,作為功率半導體中的一類重要器件,其應用***。功率半導體領域包括分立式元器件和模塊兩種形式,而IGBT同樣擁有這兩種形態,并各自適用于不同的應用場景。高新區IGBT設計高科技二極管模塊包括什么功能,銀耀芯城半導體闡述?

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1996年,CSTBT(載流子儲存的溝槽柵雙極晶體管)使第5代IGBT模塊得以實現[6],它采用了弱穿通(LPT)芯片結構,又采用了更先進的寬元胞間距的設計。包括一種“反向阻斷型”(逆阻型)功能或一種“反向導通型”(逆導型)功能的IGBT器件的新概念正在進行研究,以求得進一步優化。IGBT功率模塊采用IC驅動,各種驅動保護電路,高性能IGBT芯片,新型封裝技術,從復合功率模塊PIM發展到智能功率模塊IPM、電力電子積木PEBB、電力模塊IPEM。PIM向高壓大電流發展,其產品水平為1200—1800A/1800—3300V,IPM除用于變頻調速外,600A/2000V的IPM已用于電力機車VVVF逆變器。平面低電感封裝技術是大電流IGBT模塊為有源器件的PEBB,用于艦艇上的導彈發射裝置。IPEM采用共燒瓷片多芯片模塊技術組裝PEBB,**降低電路接線電感,提高系統效率,現已開發成功第二代IPEM,其中所有的無源元件以埋層方式掩埋在襯底中。智能化、模塊化成為IGBT發展熱點。

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