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深圳泛半導(dǎo)體電鍍銅產(chǎn)線

來源: 發(fā)布時間:2024-03-06

電鍍銅工序包括種子層制備、圖形化、電鍍?nèi)蟓h(huán)節(jié),涌現(xiàn)多種設(shè)備方案。電鍍銅 工藝尚未定型,各環(huán)節(jié)技術(shù)方案包括(1)種子層:設(shè)備主要采用 PVD,主要技術(shù)分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用;(2)圖形化:感光材料 分為干膜和油墨,主要技術(shù)分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類光刻/LDI 激光直寫/激光 開槽;(3)電鍍:主要技術(shù)分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導(dǎo)電鍍。釜川(無錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強大的科研團隊,憑借技術(shù)競爭力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨特優(yōu)勢;以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。電鍍銅工藝流程,圖形化和金屬化為重點心。深圳泛半導(dǎo)體電鍍銅產(chǎn)線

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銅電鍍相較銀漿絲網(wǎng)印刷,優(yōu)勢主要在兩方面:降本與提效。1)降本:在自然界中,金屬導(dǎo)電性由高到低分別是銀、銅、金、鋁、鎳、鐵,但銀屬于貴金屬,價格較高,不適合做導(dǎo)線,若采用其做導(dǎo)線,將拉高生產(chǎn)成本,因此在光伏電池片中,無論是使用高溫銀漿還是低溫銀漿,銀漿成本高昂是產(chǎn)業(yè)規(guī)模化痛點,銅作為賤金屬,若能替代銀,降本問題基本迎刃而解。2)效率提升:金屬銀導(dǎo)電性強于金屬銅,但銀漿屬于混合流動膠體,導(dǎo)電性較純銅的銅柵線弱,線寬可以做到更細的銅柵線發(fā)電效率也更高。成都泛半導(dǎo)體電鍍銅設(shè)備制造商電鍍銅技術(shù)路線濕膜光刻比干膜光刻多一道烘烤環(huán)節(jié),但其性能優(yōu)異和成本低,為目前主流路線。

光伏電鍍銅設(shè)備工藝銅柵線更細,線寬線距尺寸小,發(fā)電效率更高。柵線細、線寬線距小意味著柵線密度更大,更多的柵線可以更好地將光照產(chǎn)生的內(nèi)部載流子通過電流形式導(dǎo)出電池片,從而提高發(fā)電效率,銅電鍍技術(shù)電池轉(zhuǎn)化效率比絲網(wǎng)印刷高0.3%~0.5%。①低溫銀漿較為粘稠,印刷寬度更寬。高溫銀漿印刷線寬可達到20μm,但是低溫銀漿印刷的線寬大約為40μm。②銅電鍍銅離子沉積只有電子交換,柵線寬度更小。銅電鍍的線寬大約為20μm,采用類半導(dǎo)體的光刻技術(shù)可低于20μm。

電鍍銅導(dǎo)電性與發(fā)電效率雙重提升金屬柵線電極與透明導(dǎo)電膜之間形成一個非整流的接觸——歐姆接觸,歐姆接觸效果決定電池導(dǎo)電性與發(fā)電效率能否達到適合。影響歐姆接觸效果的因素有接觸面緊密結(jié)合度、柵線材料電阻率,電阻率越大,電池片對電子或載流子的負荷越高,電子或載流子的通過率越差。銅柵線導(dǎo)電性強于銀漿。銅的導(dǎo)電性與銀相近,但銀漿屬于混合物膠體,銅柵線是純銅,因此銅柵線的電阻率更低,銅柵線電阻率是1.7Ω/m,銀漿的電阻率大約為5-10Ω/m。電鍍銅設(shè)備是實現(xiàn)金屬化的重點,各家紛紛布局主要電鍍設(shè)備有龍門電鍍線、水平電鍍線、VCP垂直連續(xù)電鍍線。

電鍍銅的外觀通常呈現(xiàn)出金屬光澤,表面光滑平整,色澤呈現(xiàn)出深黃色或紅棕色。電鍍銅的外觀質(zhì)量與電鍍工藝和材料有關(guān),一般來說,電鍍銅的外觀質(zhì)量越好,其表面光澤越強,色澤越鮮艷,且不易出現(xiàn)氧化、腐蝕等問題。電鍍銅的外觀質(zhì)量受到多種因素的影響,如電鍍液的成分、溫度、電流密度、電鍍時間等。在電鍍過程中,如果電鍍液的成分不均勻或溫度、電流密度不穩(wěn)定,就會導(dǎo)致電鍍銅的外觀質(zhì)量不佳,表面可能會出現(xiàn)氣泡、凹凸不平、色澤不均等問題。此外,電鍍銅的外觀質(zhì)量還與基材的材料和表面處理有關(guān)。如果基材表面不平整或存在污垢、油脂等物質(zhì),就會影響電鍍銅的外觀質(zhì)量。因此,在進行電鍍銅之前,需要對基材進行適當(dāng)?shù)那逑春吞幚恚源_保電鍍銅的外觀質(zhì)量。電鍍銅路線PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蝕性及化學(xué)穩(wěn)定性,膜層的壽命更長。北京高效電鍍銅技術(shù)路線

電鍍銅工藝圖形化:光刻路線和激光路線并行。深圳泛半導(dǎo)體電鍍銅產(chǎn)線

銀漿成本高有四大降本路徑,兩大方向。一是減少高價低溫銀漿用量 二是減少銀粉的用量,使用賤金屬替代部分銀粉,例如銀包銅、電鍍銅。銅電鍍是一種非接觸式的電極金屬化技術(shù),在基體金屬表面通過電解方法沉積金屬銅制作銅柵線,收集光伏效應(yīng)產(chǎn)生的載流子。為解決電鍍銅與透明導(dǎo)電薄膜(TCO)之間的接觸與附著性問題,需先使用PVD設(shè)備鍍一層極薄的銅種子層(100nm),銜接前序的TCO和后序的電鍍銅,種子層制備后還需對其進行快速燒結(jié)處理,以進一步強化附著力。同時,銅種子層作為后續(xù)電鍍銅的勢壘層,可防止銅向硅內(nèi)部擴散。深圳泛半導(dǎo)體電鍍銅產(chǎn)線

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