晶體振蕩器:晶體振蕩器是分子束外延生長的定標(biāo)設(shè)備。定標(biāo)時,待蒸發(fā)源蒸發(fā)速度穩(wěn)定后,將石英振蕩器置于中心點。通過讀出石英振蕩器振蕩頻率的變化,可以知道蒸發(fā)源在單位時間內(nèi)在襯底上長出薄膜的厚度。有的不銹鋼真空腔體將晶振放在樣品架放置樣品位置的反面(如小腔),在新腔...
真空腔體使用時的常見故障及措施:真空腔體是可以讓物料在真空狀態(tài)下進行相關(guān)物化反應(yīng)的綜合反應(yīng)工具。具有加熱快、抗高溫、耐腐蝕、環(huán)境污染小、自動加熱等幾大特點,是食品、生物制藥、精細化工等行業(yè)常用的反應(yīng)設(shè)備之一,用來完成硫化、烴化、氫化、縮合、聚合等的工藝反應(yīng)過程...
鋁合金真空腔體的表面處理介紹:鋁材長期暴露在空氣中,與其它元素發(fā)生化學(xué)反應(yīng)后,變成黑色。鋁的腐獨電位較負,對鋁合金型材表面處理可以提高材料防腐性、裝飾性和功能性。表面處理分類?鉻化:適用于鋁及鋁合金、鎂及鎂合金產(chǎn)品。使產(chǎn)品表面形成一層厚度在0.5-4um的化學(xué)...
在工業(yè)生產(chǎn)當(dāng)中,真空腔體是真空鍍膜工藝的關(guān)鍵設(shè)備。是通過創(chuàng)造并維持的高度真空的環(huán)境,真空腔體能夠有效去防止材料在鍍膜過程中受到氧氣、水分等雜質(zhì)的污染,從而確保鍍膜的純度和質(zhì)量。這種技術(shù)廣泛應(yīng)用于我們?nèi)粘I钪械腖ED顯示屏、太陽能電池板和光學(xué)鏡片以及高級裝飾品...
真空腔是·種用于實驗軍和工業(yè)生產(chǎn)中的重要設(shè)備,它的工作原理是利用真空環(huán)境下的特殊物理和化學(xué)性質(zhì)米進行各種實驗和加工。真空腔的主要作用是在無氧、無塵、無水和無氣的環(huán)境下進行實驗和加工,以避免外界環(huán)境對實驗和加工的干擾和影響。真空腔的工作原理是通過抽取腔體內(nèi)的氣體...
真空腔體為真空系統(tǒng)中主體部分,真空腔體的密封性能直接決定著真空系統(tǒng)的好壞,所以真空腔體的密封性能就作為真空腔體的比較關(guān)鍵的性能,這就要求真空檢漏是真空腔體重要的一個環(huán)節(jié),真空腔體檢漏的效率直接影響真空腔體的制造效率,對于如何提高真空腔體抽真空的效率就是我們檢測...
真空腔體是半導(dǎo)體設(shè)備關(guān)鍵零部件,主要用于刻蝕、薄膜沉積設(shè)備中。腔體通常由高純度、耐腐蝕的材料制成,主要為不銹鋼和鋁合金。真空腔體為晶圓生產(chǎn)提供耐腐蝕、潔凈和高真空環(huán)境,用于承載并控制芯片制造過程中的化學(xué)反應(yīng)和物理反應(yīng)過程,主要應(yīng)用于刻蝕、薄膜沉積設(shè)備,也少量用...
真空腔體的加熱模式:從加熱模式上來,用戶也能夠按照自身的要求來選用不一樣的加熱模式,那么真空腔體的加熱模式都有哪些呢?1、蒸汽加熱模式。有的用戶由于生產(chǎn)加工物料的特性,或用戶生產(chǎn)加工現(xiàn)場有現(xiàn)成的蒸汽時,可選用蒸汽作為設(shè)備的加熱模式。蒸汽加熱模式也能夠借助智能化...
清洗方法的原理和特點溶劑清洗主要依靠有機溶劑的溶解作用去除污染物;酸洗和堿洗則是利用化學(xué)反應(yīng)去除特定的污染物。清洗方法操作簡單,但可能存在清洗不徹底的情況。噴丸噴丸即使用丸粒轟擊工件表面并植入殘余壓應(yīng)力,提升工件疲勞強度的冷加工工藝。噴丸處理后,工件表面污物被...
·超聲波拋光將工件放置于磨料懸浮液中,并一同置于超聲波場里,依靠超聲波的振蕩作用,促使磨料在工件表面進行磨削拋光。超聲波加工具有宏觀力小的特點,不會導(dǎo)致工件變形,但其工裝制作和安裝難度較大。超聲波加工可與化學(xué)或電化學(xué)方法相結(jié)合,在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上,施加超...
真空腔體:航天航空、集成電路、粒子加速、高速列車、核聚變等技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展,對真空腔體的性能要求提升到一個新的高度。真空腔體需要滿足復(fù)雜結(jié)構(gòu)造型,高、低溫循環(huán),、高真空循環(huán),低泄漏、超潔凈,輻照損傷,高溫?zé)g,砂礫侵蝕,化學(xué)腐蝕等應(yīng)用條件。我國天和空間站迎來了高速...
實驗室小型不銹鋼真空腔體的功能劃分集中,主要為生長區(qū),傳樣測量區(qū),抽氣區(qū)三個部分。對于分子束外延生長腔,重要的參數(shù)是其中心點A的位置,即樣品在生長過程中所處的位置。所以蒸發(fā)源,高能電子衍射(RHEED),高能電子衍射屏,晶體振蕩器,生長擋板,CCD,生長觀察視...
真空腔體材料的幾點要求對真空腔體材料的主要要求如下:1一定的機械強度2氣密性好,不應(yīng)是多孔結(jié)構(gòu),不能有裂縫、小孔以及能造成漏氣的其他缺陷3較低的出氣率和滲透率4在工作溫度和烘烤溫度下的飽和蒸氣壓要足夠低5化學(xué)穩(wěn)定性好,不易氧化和腐蝕,不與系統(tǒng)中的工作液體發(fā)生化...
·電解拋光電解拋光的基本原理與化學(xué)拋光相似,都是通過選擇性溶解材料表面微小凸出部分來使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,電解拋光能夠消除陰極反應(yīng)的影響,效果更為出色。整個電化學(xué)拋光過程分為兩步:第一步是宏觀整平,溶解產(chǎn)物向電解液中擴散,使材料表面幾何粗糙度下降,此時R...
真空腔體按使用功能可分為過渡腔、傳輸腔和反應(yīng)腔:?過渡腔:是設(shè)備中晶圓真空環(huán)境入口,晶圓從外部運輸至設(shè)備入口,經(jīng)過前端模塊(EFEM)后進入過渡腔,方從大氣環(huán)境轉(zhuǎn)換為真空環(huán)境,后續(xù)再進入真空環(huán)境的傳輸腔、反應(yīng)腔進行工藝反應(yīng)。過渡腔以鋁合金為主,技術(shù)相對簡單。?...
注漿過程控制注漿過程中隨時檢查孔口、鄰孔、覆蓋層較薄部位有無串漿現(xiàn)象,如發(fā)生串漿,應(yīng)立即停止注漿或采用間歇式注漿封堵串漿口,也可以采用麻紗、木楔、快硬水泥砂漿或錨固劑封堵,直至不再串漿時再繼續(xù)注漿。注漿時相鄰孔眼需間隔開,不能連續(xù)注漿,以確保固結(jié)效果,同時達到...
真空腔體的結(jié)構(gòu)特征:真空腔體一般是指通過真空裝置對反應(yīng)釜進行抽真空,讓物料在真空狀態(tài)下進行相關(guān)物化反應(yīng)的綜合反應(yīng)容器,可實現(xiàn)真空進料、真空脫氣、真空濃縮等工藝??筛鶕?jù)不同的工藝要求進行不同的容器結(jié)構(gòu)設(shè)計和參數(shù)配置,實現(xiàn)工藝要求的真空狀態(tài)下加熱、冷卻、蒸發(fā)、以及...
常見的真空腔體表面處理01清洗類方法·溶劑清洗選用諸如乙醇之類適配的有機溶劑,憑借其溶解特性,能夠有效清理真空腔體表面附著的油脂、污垢等污染物。該方法操作簡便,易于實施。然而,面對一些頑固污漬,其清潔效果會大打折扣?!に嵯催\用鹽酸、硫酸等酸性溶液,借助化學(xué)反應(yīng)...
真空腔體的結(jié)構(gòu)特征:真空腔體一般是指通過真空裝置對反應(yīng)釜進行抽真空,讓物料在真空狀態(tài)下進行相關(guān)物化反應(yīng)的綜合反應(yīng)容器,可實現(xiàn)真空進料、真空脫氣、真空濃縮等工藝??筛鶕?jù)不同的工藝要求進行不同的容器結(jié)構(gòu)設(shè)計和參數(shù)配置,實現(xiàn)工藝要求的真空狀態(tài)下加熱、冷卻、蒸發(fā)、以及...
真空腔體的結(jié)構(gòu)特征:真空腔體一般是指通過真空裝置對反應(yīng)釜進行抽真空,讓物料在真空狀態(tài)下進行相關(guān)物化反應(yīng)的綜合反應(yīng)容器,可實現(xiàn)真空進料、真空脫氣、真空濃縮等工藝。可根據(jù)不同的工藝要求進行不同的容器結(jié)構(gòu)設(shè)計和參數(shù)配置,實現(xiàn)工藝要求的真空狀態(tài)下加熱、冷卻、蒸發(fā)、以及...
真空腔體的結(jié)構(gòu)特征:真空腔體一般是指通過真空裝置對反應(yīng)釜進行抽真空,讓物料在真空狀態(tài)下進行相關(guān)物化反應(yīng)的綜合反應(yīng)容器,可實現(xiàn)真空進料、真空脫氣、真空濃縮等工藝??筛鶕?jù)不同的工藝要求進行不同的容器結(jié)構(gòu)設(shè)計和參數(shù)配置,實現(xiàn)工藝要求的真空狀態(tài)下加熱、冷卻、蒸發(fā)、以及...
真空腔體操作前的準(zhǔn)備工作:1、檢查水沖泵(前級泵)水箱液位是否達水箱的3/4以上,若不足則補足。2檢查水箱內(nèi)所使用的水是否清潔,不允許用含有泥沙的污水,以免堵塞管路,真空腔體增加水泵葉輪磨損、增加電機負荷造成故障,影響水沖泵使用壽命。3、檢查中間泵及主泵泵體內(nèi)...
真空腔體的使用方法介紹:1、將反應(yīng)物倒入襯套內(nèi),真空腔體并保障加料系數(shù)小于0.8。2、保障釜體下墊片位置正確(凸起面向下),然后放入襯套和上墊片,先擰緊釜蓋混合設(shè)備,然后用螺桿把釜蓋旋扭擰緊為止。3、將設(shè)備置于加熱器內(nèi),按照規(guī)定的升溫速率升溫至所需反應(yīng)溫度。(...
機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用石油條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉(zhuǎn)體面,可使用轉(zhuǎn)臺等輔助工具,表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工...
關(guān)于真空腔體的相關(guān)用途,材料制備和處理真空腔體在材料制備和處理方面有著很大的用途,包括沉積、蒸發(fā)、熱處理、清洗、表面改性等,這些處理需要在真空或者低氣壓狀態(tài)下進行。例如,蒸發(fā)鍍膜是一種常見的材料制備技術(shù),對于光學(xué)、電子和醫(yī)學(xué)相關(guān)等行業(yè)都有很大的應(yīng)用,如制造LE...
關(guān)于真空腔體的相關(guān)用途,材料制備和處理真空腔體在材料制備和處理方面有著很大的用途,包括沉積、蒸發(fā)、熱處理、清洗、表面改性等,這些處理需要在真空或者低氣壓狀態(tài)下進行。例如,蒸發(fā)鍍膜是一種常見的材料制備技術(shù),對于光學(xué)、電子和醫(yī)學(xué)相關(guān)等行業(yè)都有很大的應(yīng)用,如制造LE...
·電解拋光電解拋光的基本原理與化學(xué)拋光相似,都是通過選擇性溶解材料表面微小凸出部分來使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,電解拋光能夠消除陰極反應(yīng)的影響,效果更為出色。整個電化學(xué)拋光過程分為兩步:第一步是宏觀整平,溶解產(chǎn)物向電解液中擴散,使材料表面幾何粗糙度下降,此時R...
實驗室小型不銹鋼真空腔體的功能劃分集中,主要為生長區(qū),傳樣測量區(qū),抽氣區(qū)三個部分。對于分子束外延生長腔,重要的參數(shù)是其中心點A的位置,即樣品在生長過程中所處的位置。所以蒸發(fā)源,高能電子衍射(RHEED),高能電子衍射屏,晶體振蕩器,生長擋板,CCD,生長觀察視...
真空腔體使用時的常見故障及措施:真空腔體是可以讓物料在真空狀態(tài)下進行相關(guān)物化反應(yīng)的綜合反應(yīng)工具。具有加熱快、抗高溫、耐腐蝕、環(huán)境污染小、自動加熱等幾大特點,是食品、生物制藥、精細化工等行業(yè)常用的反應(yīng)設(shè)備之一,用來完成硫化、烴化、氫化、縮合、聚合等的工藝反應(yīng)過程...
真空腔體是保持內(nèi)部為真空狀態(tài)的容器,真空腔體的制作要考慮容積、材質(zhì)和形狀。不銹鋼是目前超高真空系統(tǒng)的主要結(jié)構(gòu)材料。具有優(yōu)良的抗腐蝕性、放氣率低、無磁性、焊接性好、導(dǎo)電率和導(dǎo)熱率低、能夠在-270—900℃工作等優(yōu)點,在高真空和超高真空系統(tǒng)中,應(yīng)用普遍。近年來,...